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유입구로 처리대상인 오염수를 유입하고 처리공간에서 오염수를 플라즈마 처리한 후, 처리된 처리수를 배출구로 배출하는 하우징; 및상기 하우징의 외부에 연결되어 상기 처리공간에 설치되어 상기 오염수의 유입에 따라 작용하는 흡인력으로 외부의 공기를 흡입하여 상기 처리공간에 공급하는 공기 유입관을 포함하며,상기 공기 유입관과 상기 배출구는 고전압전극과 접지전극 중 서로 다른 하나의 전극으로 작용하고,상기 처리공간에 수용되는 오염수의 수면과 상기 공기 유입관의 내측단은 서로의 사이에 방전갭을 형성하며,상기 처리공간에 수용되는 오염수와 흡입되는 공기는 와류영역에서 혼합되어 플라즈마 방전을 일으키는수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 공기 유입관은 고전압전극으로 작용하고,상기 배출구는 접지전극으로 작용하는수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 하우징은상기 처리공간의 상부에 형성되어 유입되는 오염수를 수용하는 수용부, 및상기 수용부로부터 오염수가 상기 처리공간으로 내려가는 유량 및 유속을 조절하도록 상기 수용부와 상기 처리공간보다 좁은 통로로 형성되는 조절부를 더 포함하는 수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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제3항에 있어서,상기 공기 유입관은상기 수용부 및 상기 조절부를 경유하여 설치되고,상기 내측단의 개구를 상기 처리공간에 배치하는수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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제4항에 있어서,상기 내측단은상기 처리공간에 수용되는 오염수의 수면과의 사이에 방전갭을 형성하는 수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 공기 유입관의 외면과 상기 조절부의 내면은상기 조절부에서 최소 간격으로 형성되는수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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제3항에 있어서,상기 공기 유입관은상기 수용부 및 상기 조절부를 경유하여 설치되고,상기 내측단의 개구를 상기 처리공간에 배치하며,상기 공기 유입관의 외면과 상기 조절부의 내면은상기 조절부에서 가변 간격으로 형성되는수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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제7항에 있어서,상기 조절부에 대응하는 상기 공기 유입관의 외경은상기 내측단 측에서 상기 공기 유입관의 외측단 측으로 가면서 점진적으로 감소하여, 상기 가변 간격은상기 외측단 측에서 최대로 형성되고 상기 내측단 측으로 가면서 점진적으로 좁아지는수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 공기 유입관은 접지전극으로 작용하며,상기 하우징은 절연재로 형성되고,상기 배출구는 고전압전극으로 작용하는수중 기포를 이용한 플라즈마 수처리 장치
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