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일정한 배열로 마련되는 목표체를 다른 배열로 변형시켜 목표 장치에 전사하기 위한 점탈착 전사 방법에 있어서,상기 목표체를 점착층에 점착하는 점착 단계;상기 목표체가 점착된 점착층의 일측면에 마련되는 기반층에 횡축 또는 종축 중 적어도 하나의 축 방향으로 외력을 가하여 상기 기반층을 변형시켜 상기 목표체를 사전에 설정되는 배열로 배열하는 변형 단계;상기 변형 단계에 의해 변형된 기반층의 일측면에 마련된 상기 점착층의 점착력이 저하되도록 외부로부터의 영향을 작용시키는 점착력 저하 단계; 및상기 기반층이 변형되어 사전에 설정되는 배열로 배열된 목표체를 상기 목표 장치에 고정하고, 상기 점착력 저하 단계에 의해 점착력이 저하된 점착층으로부터 상기 목표체를 분리하는 전사 단계를 포함하는, 점탈착 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 기반층은,상기 점착층의 대향면에 대해 외부로부터 횡축 또는 종축 중 적어도 하나의 축 방향으로 가해지는 외력에 따라 변형되는 연질부; 및상기 외력에 따라 상기 연질부의 변형도와 비교하여 낮은 변형도를 가지는 경질부를 포함하는, 점탈착 전사 방법
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제2항에 있어서, 상기 경질부는,상기 연질부와 비교 시, 상대적으로 두꺼운 두께로 형성되며, 사전에 설정되는 배열에 따라 돌출되도록 형성되는, 점탈착 전사 방법
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제3항에 있어서, 상기 경질부는,상기 연질부와 동일한 재질로 돌출되도록 형성되어, 상기 기반층에 작용하는 외력에 따라 상기 연질부의 변형도와 비교하여 낮은 변형도를 가지도록 형성되는, 점탈착 전사 방법
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제3항에 있어서, 상기 경질부는,상기 연질부의 변형도와 비교하여 낮은 변형도를 가지도록 상기 연질부의 재질과 다른 재질로 돌출되도록 형성되어, 상기 기반층에 작용하는 외력에 따라 상기 연질부의 변형도와 비교하여 낮은 변형도를 가지도록 형성되는, 점탈착 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 기반층은,가역성 또는 비가역성 중 적어도 하나의 성질을 나타내도록 형성되며,상기 가역성을 나타내도록 형성되는 기반층은 기본 형태에서 목표체가 점착되고, 외부로부터 작용하는 외력에 따라 미리 정해지는 비율로 변형되어 목표 장치에 상기 목표체를 전사하고, 상기 외력이 해소되는 경우, 기본 형태로 복원되는, 점탈착 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 기반층은,가역성 또는 비가역성 중 적어도 하나의 성질을 나타내도록 형성되며,상기 비가역성을 나타내도록 형성되는 기반층은 기본 형태에서 목표체가 점착되고, 외부로부터 작용하는 외력에 따라 미리 정해지는 비율로 변형되어 목표 장치에 상기 목표체를 전사하고, 상기 외력이 해소되는 경우, 상기 외력에 의해 변형된 형태로 유지되는, 점탈착 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 목표체는,수 내지 수백 마이크로미터로 형성되고, 서로 다른 색상을 나타내는 적어도 하나 이상의 LED를 포함하는, 점탈착 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 점착 단계는,상기 목표체가 형성되는 목표체 형성판을 고정하는 하부 지지대 또는 상기 기반층을 고정하는 상부 지지대 중 적어도 하나의 지지대를 이동시켜 상기 목표체가 상기 점착층 내부에 일정 깊이 삽입되도록 가압하는 단계를 더 포함하는, 점탈착 전사 방법
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