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a) 캡핑제를 포함하는 환원 용매를 이용하여 폴리올 공정으로 질산은(AgNO3)을 환원시켜 은 나노와이어를 제조하는 단계;b) 상기 은 나노와이어를 용매에 분산시켜 필름에 증착시키는 단계; c) 상기 은 나노와이어가 증착된 필름을 건조시켜 용매를 제거하는 단계; 및 d) 상기 필름 표면에 염기성 용액을 분사하여 표면을 개질하는 단계를 포함하는 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 염기성 용액은 수산화나트륨(NaOH), 수산화칼륨(KOH) 또는 이들의 혼합 수용액인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법
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제2항에 있어서, 상기 염기성 용액의 농도는 0
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제1항에 있어서, 상기 a) 단계의 환원 용매는 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 글리세린, 글리세롤, 글루코오스, 이소바이드, 폴리프로필렌글리콜로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 캡핑제는 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리비닐알콜(PVA), 폴리아크릴아마이드(PAA)로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 a) 단계의 환원 용매는 FeCl3, AgCl, NaCl, CuCl2로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 첨가제(mediated agent)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 질산은(AgNO3)은 폐 스크랩에서 회수된 은을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 질산은(AgNO3)은 i) 폐 스크랩을 질산에 침출시키는 단계, ii) 상기 침출 후 염산을 투입하여 염화은(AgCl)을 얻는 단계, iii) 상기 염화은(AgCl)을 환원시켜 은(Ag) 입자를 얻는 단계, iv) 은(Ag) 입자를 질산에 침출시켜 질산은(AgNO3)을 얻는 단계에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 b) 단계의 은 나노와이어를 필름에 증착시키는 방법은 스핀 코팅 기법, 스프레이 코팅 기법, 닥터 블레이딩 기법, 스퍼터링법, 진공증착법 중에서 선택된 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법
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