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액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템

  • 기술번호 : KST2021004408
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 일 실시예에 따른 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템은, 가변 주파수의 전파를 출력하는 패치 안테나; 상기 패치 안테나와 동일 평면 상에 배치되는 스크린; 상기 스크린 및 상기 패치 안테나로부터 정해진 거리만큼 이격되어 위치하며, 인가된 전압에 따라 유전율이 변화하는 액정을 포함하는 부분 반사 표면(PRS); 및 상기 부분 반사 표면에 전압을 인가하여 상기 액정의 유전율을 조정하기 위한 제어부를 포함하되, 상기 제어부는 상기 전파의 주파수 변화에 따라 상기 스크린과 상기 부분 반사 표면 사이의 거리가 공진 길이가 되도록 상기 액정의 유전율을 조정하는 것을 특징으로 한다. 실시예에 따르면, 주파수 변화에 대응하여 액정의 유전율 및 PRS의 반사 계수를 조정함으로써 다중 주파수에 대해서 동작 가능하며 안정적인 빔 출력과 고 이득 특성을 갖는 안테나 시스템을 구현할 수 있다.
Int. CL H01Q 15/14 (2006.01.01) H01Q 9/04 (2018.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020200133446 (2020.10.15)
출원인 서울대학교산학협력단, 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0044729 (2021.04.23) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020190127948   |   2019.10.15
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
2 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오정석 서울특별시 강남구
2 염상기 전라남도 순천시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2020-1090533-63
2 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2020.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2020-1099366-99
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템으로서,가변 주파수의 전파를 출력하는 패치 안테나;상기 패치 안테나와 동일 평면 상에 배치되는 스크린;상기 스크린 및 상기 패치 안테나로부터 정해진 거리만큼 이격되어 위치하며, 인가된 전압에 따라 유전율이 변화하는 액정을 포함하는 부분 반사 표면(PRS); 및상기 부분 반사 표면에 전압을 인가하여 상기 액정의 유전율을 조정하기 위한 제어부를 포함하되,상기 제어부는 상기 전파의 주파수 변화에 따라 상기 스크린과 상기 부분 반사 표면 사이의 거리가 공진 길이가 되도록 상기 액정의 유전율을 조정하는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 부분 반사 표면의 제1 부분은 상기 패치 안테나로부터 출력된 전파의 일부를 통과시키고 일부를 상기 스크린을 향해 반사하며, 상기 스크린은 상기 반사된 전파를 상기 부분 반사 표면의 제2 부분을 향해 반사하도록 구성되고, 이러한 반복적인 반사를 통해 안테나의 이득을 향상시키는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 부분 반사 표면은 이차원 배열된 복수의 유닛 셀들로 구성되며, 각각의 유닛 셀은 적어도 하나의 금속층 사이에 배치된 액정 및 상기 액정을 둘러싼 스페이서로 구성된 액정층을 포함하고, 상기 액정은 상기 금속층에 인가된 전압에 따라 유전율이 변화하는 유전율 이방성을 갖는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 공진 길이는 상기 부분 반사 표면을 통과하는 각 전파 간 경로차에 의한 위상차가 0이 될 때의 스크린과 부분 반사 표면 사이의 거리를 나타내는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제4항에 있어서,상기 스크린과 상기 부분 반사 표면 간의 거리는 제1 유전율을 갖는 액정층과 제1 주파수를 갖는 전파에 대해 공진 길이가 되도록 정해지고,상기 전파의 주파수가 제2 주파수로 변경될 경우, 상기 제어부는 상기 액정층의 유전율을 제2 유전율로 조정하여 상기 거리가 제2 주파수에 대해 공진 길이가 되도록 제어하는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제5항에 있어서,상기 액정층의 제1 유전율은 전압이 인가되지 않았을 때의 유전율인 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제6항에 있어서,상기 부분 반사 표면의 반사 계수는 상기 액정층의 유전율에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 서울대학교 산학협력단 원천기술개발사업-글로벌프런티어사업-파동에너지 극한제어 초박형-초소형 Planar 전자기 소자