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액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템으로서,가변 주파수의 전파를 출력하는 패치 안테나;상기 패치 안테나와 동일 평면 상에 배치되는 스크린;상기 스크린 및 상기 패치 안테나로부터 정해진 거리만큼 이격되어 위치하며, 인가된 전압에 따라 유전율이 변화하는 액정을 포함하는 부분 반사 표면(PRS); 및상기 부분 반사 표면에 전압을 인가하여 상기 액정의 유전율을 조정하기 위한 제어부를 포함하되,상기 제어부는 상기 전파의 주파수 변화에 따라 상기 스크린과 상기 부분 반사 표면 사이의 거리가 공진 길이가 되도록 상기 액정의 유전율을 조정하는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 부분 반사 표면의 제1 부분은 상기 패치 안테나로부터 출력된 전파의 일부를 통과시키고 일부를 상기 스크린을 향해 반사하며, 상기 스크린은 상기 반사된 전파를 상기 부분 반사 표면의 제2 부분을 향해 반사하도록 구성되고, 이러한 반복적인 반사를 통해 안테나의 이득을 향상시키는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 부분 반사 표면은 이차원 배열된 복수의 유닛 셀들로 구성되며, 각각의 유닛 셀은 적어도 하나의 금속층 사이에 배치된 액정 및 상기 액정을 둘러싼 스페이서로 구성된 액정층을 포함하고, 상기 액정은 상기 금속층에 인가된 전압에 따라 유전율이 변화하는 유전율 이방성을 갖는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 공진 길이는 상기 부분 반사 표면을 통과하는 각 전파 간 경로차에 의한 위상차가 0이 될 때의 스크린과 부분 반사 표면 사이의 거리를 나타내는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제4항에 있어서,상기 스크린과 상기 부분 반사 표면 간의 거리는 제1 유전율을 갖는 액정층과 제1 주파수를 갖는 전파에 대해 공진 길이가 되도록 정해지고,상기 전파의 주파수가 제2 주파수로 변경될 경우, 상기 제어부는 상기 액정층의 유전율을 제2 유전율로 조정하여 상기 거리가 제2 주파수에 대해 공진 길이가 되도록 제어하는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제5항에 있어서,상기 액정층의 제1 유전율은 전압이 인가되지 않았을 때의 유전율인 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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제6항에 있어서,상기 부분 반사 표면의 반사 계수는 상기 액정층의 유전율에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는, 액정 기반 주파수 가변 PRS 안테나 시스템
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