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그래핀과 탄소 나노 튜브 접합에 기반하는 트랜지스터 및 이를 제조하는 방법

  • 기술번호 : KST2021004615
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 그래핀과 탄소 나노 튜브 접합에 기반하는 트랜지스터 및 이를 제조하는 방법이 개시된다. 일 실시예에 따른 트랜지스터는 기판과, 상기 기판 위에 적층되는 탄소 나노 튜브와, 상기 기판과 상기 탄소 나노 튜브 위에 적층되는 그래핀층과, 상기 탄소 나노 튜브와 이격되어 배치되고, 상기 그래핀층 위에 적층되는 제1 전극과, 상기 그래핀층과 이격되어 배치되고, 상기 탄소 나노 튜브 위에 적층되는 제2 전극과, 상기 탄소 나노 튜브와 상기 그래핀층 위에 적층되는 절연층과, 상기 절연층 위에 적층되는 제3 전극을 포함한다.
Int. CL H01L 29/08 (2006.01.01) H01L 29/06 (2006.01.01) H01L 29/16 (2006.01.01) H01L 29/47 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020200072341 (2020.06.15)
출원인 건국대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0046526 (2021.04.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020190129985   |   2019.10.18
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.06.15)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 건국대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유영규 경기도 구리시
2 장성호 서울특별시 성북구
3 이준호 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2020-0612770-43
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.02.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.04.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0063704-77
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번호 청구항
1 1
기판;상기 기판 위에 적층되는 탄소 나노 튜브;상기 기판과 상기 탄소 나노 튜브 위에 적층되는 그래핀층;상기 탄소 나노 튜브와 이격되어 배치되고, 상기 그래핀층 위에 적층되는 제1 전극;상기 그래핀층과 이격되어 배치되고, 상기 탄소 나노 튜브 위에 적층되는 제2 전극;상기 탄소 나노 튜브와 상기 그래핀층 위에 적층되는 절연층; 및상기 절연층 위에 적층되는 제3 전극을 포함하는, 트랜지스터
2 2
제1항에 있어서,상기 기판 아래에 형성된 제4 전극을 더 포함하는, 트랜지스터
3 3
제1항에 있어서,상기 그래핀층은,상기 기판과 상기 제1 전극 사이에 형성되며, 상기 제2 전극을 향하여 연장되는, 트랜지스터
4 4
제3항에 있어서,상기 그래핀층은,상기 제1 전극으로 연장되어 제1 높이로 형성된 제1 영역; 및상기 제2 전극으로 연장된 제2 높이로 형성된 제2 영역을 포함하는, 트랜지스터
5 5
제4항에 있어서,상기 제1 영역 및 상기 제2 영역은 단일 겹 그래핀으로 구현된, 트랜지스터
6 6
제4항에 있어서,상기 제1 영역은,상기 제1 전극, 상기 기판 및 상기 탄소 나노 튜브에 직접적으로 접촉되고,상기 제2 영역은,상기 탄소 나노 튜브 및 상기 절연층과 직접적으로 접촉되는, 트랜지스터
7 7
제1항에 있어서,상기 탄소 나노 튜브는,상기 기판과 상기 제2 전극 사이에 형성되며, 상기 제1 전극을 향하여 연장되는, 트랜지스터
8 8
제1항에 있어서,상기 탄소 나노 튜브는,상기 기판, 상기 제2 전극, 상기 그래핀층 및 상기 절연층과 직접적으로 접촉되는, 트랜지스터
9 9
제2항에 있어서,상기 탄소 나노 튜브 및 상기 그래핀층은 쇼트키 접합을 형성하고,상기 쇼트키 접합은,상기 제3 전극에 인가된 전압에 의해 조절되는, 트랜지스터
10 10
제9항에 있어서,상기 제3 전극 및 상기 제4 전극에 모두 전압이 인가된 경우,상기 쇼트키 접합은,상기 제4 전극에 인가된 전압에 의해 조절되는, 트랜지스터
11 11
기판;상기 기판 위에 적층되는 배리스터 소자;상기 배리스터 소자 위에 적층되며 상기 배리스터 소자의 일 측에 배치되는 제1 전극;상기 배리스터 소자 위에 적층되며 상기 제1 전극과 이격되어 배치되는 제2 전극;상기 배리스터 소자 위에 적층되는 절연층;상기 절연층 위에 적층되는 제3 전극; 및상기 기판 아래에 형성되는 제4 전극을 포함하는, 트랜지스터
12 12
제11항에 있어서,상기 배리스터 소자는,상기 기판 위에 적층되는 탄소 나노 튜브; 및상기 기판과 상기 탄소 나노 튜브 위에 적층되는 그래핀층을 포함하고,상기 제1 전극은,상기 탄소 나노 튜브와 이격되어 배치되며 상기 그래핀층 위에 적층되고,상기 제2 전극은,상기 그래핀층과 이격되어 배치되며 상기 탄소 나노 튜브 위에 적층되고,상기 절연층은,상기 탄소 나노 튜브와 상기 그래핀층 위에 적층되는, 트랜지스터
13 13
제12항에 있어서,상기 그래핀층은,상기 기판과 상기 제1 전극 사이에 형성되며, 상기 제2 전극을 향하여 연장되는, 트랜지스터
14 14
제13항에 있어서,상기 그래핀층은,상기 제1 전극으로 연장되어 제1 높이로 형성된 제1 영역; 및상기 제2 전극오로 연장되어 제2 높이로 형성된 제2 영역을 포함하는, 트랜지스터
15 15
제14항에 있어서,상기 제1 영역 및 상기 제2 영역은 단일 겹 그래핀으로 구현된, 트랜지스터
16 16
제14항에 있어서,상기 제1 영역은,상기 제1 전극 상기 기판 및 상기 탄소 나노 튜브에 직접적으로 접촉되고,상기 제2 영역은,상기 탄소 나노 튜브 및 상기 절연층과 직접적으로 접촉되는, 트랜지스터
17 17
제12항에 있어서,상기 탄소 나노 튜브는,상기 기판과 상기 제2 전극 사이에 형성되며, 상기 제1 전극을 향하여 연장되는, 트랜지스터
18 18
제12항에 있어서,상기 탄소 나노 튜브는,상기 기판, 상기 제2 전극, 상기 그래핀층 및 상기 절연층과 직접적으로 접촉되는, 트랜지스터
19 19
제12항에 있어서,상기 탄소 나노 튜브 및 상기 그래핀층은 쇼트키 접합을 형성하고,상기 쇼트키 접합은,상기 제3 전극에 인가된 전압에 의해 조절되는, 트랜지스터
20 20
제19항에 있어서,상기 제3 전극 및 상기 제4 전극에 모두 전압이 인가된 경우,상기 쇼트키 접합은,상기 제4 전극에 인가된 전압에 의해 조절되는, 트랜지스터
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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1 과학기술정보통신부 건국대학교 기초연구사업(중견연구자-핵심연구) Rolled-up 된 2차원 층상구조 물질의 특성 및 응용 연구