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마이크로웨이브 플라즈마 장치에 산화성 가스를 포함하는 플라즈마 가스를 주입하고, 금속원료를 투입하는 단계; 및마이크로웨이브 플라즈마 장치에 주입된 금속원료는 플라즈마 가스와 반응하여 금속산화물 나노구조체를 합성하는 단계; 를 포함하며,상기 산화성 가스의 종류에 따라 합성되는 금속산화물 나노구조체 형태를 제어할 수 있는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,산화성 가스는, 압축공기(Compressed air), O2 가스 및 N2 가스로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,나노구조체 형상은, 나노와이어(Nanowire), 나노로드(Nanorod) 및 테트라포드(Tetrapod)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제2항에 있어서,산화성 가스는, 압축공기이며, 합성되는 나노구조체 형상은 나노와이어(Nanowire) 인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제2항에 있어서,산화성 가스는, O2 가스이며, 합성되는 나노구조체 형상은 나노로드 (Nanorod) 인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제2항에 있어서,산화성 가스는, O2/N2 혼합가스이며, 합성되는 나노구조체 형상은 테트라포드(Tetrapod) 인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제6항에 있어서,O2/N2 혼합가스는, O2 가스와 N2 가스가 10~90:90~10 의 부피비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제6항에 있어서,금속산화물 나노구조체를 합성하는 단계는, 500 내지 1500 W 범위의 플라즈마 전력(plasma power)을 5초 내지 30분 동안 공급하여 수행되는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,금속산화물 나노구조체를 합성하는 단계에서, 플라즈마 가스의 유량은 5 내지 30 LPM 범위인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,금속원료는, 아연(Zn), 마그네슘(Mg), 세레늄(Se), 주석(Sn), 철(Fe), 규소(Si), 티타늄(Ti), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 텔루륨(Te), 바나듐(V), 텅스텐(W) 및 게르마늄(Ge)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,금속산화물 나노구조체의 제조방법은, 연속공정으로 금속산화물 나노구조체를 합성하는 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체의 제조방법
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제1 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 금속산화물 나노구조체의 제조방법에 의해서 제조되는 금속산화물 나노구조체
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제12항에 있어서,금속산화물 나노구조체는, 나노와이어(Nanowire), 나노로드(Nanorod) 또는 테트라포드(Tetrapod)인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체
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제12항에 있어서,금속산화물 나노구조체는, 나노와이어(Nanowire) 형태이며, 흡수 파장이 500 내지 700 nm 인 것을 특징으로 하는 금속산화물 나노구조체
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제14항에 따른 금속산화물 나노구조체를 포함하는 광촉매
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