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마스터기판 상에 금속나노와이어층을 배치하는 금속나노와이어층 배치단계;상기 금속나노와이어층을 향하여 음각 패터닝된 스탬프를 압착 및 분리시키며 상기 금속나노와이어층에서 비패턴 영역을 제거하는 패턴 형성단계;패턴이 형성된 상기 금속나노와이어층 상에 폴리머 및 기판을 차례로 배치하고, 상기 폴리머 내부에 상기 금속나노와이어층이 매립되는 동시에 상기 폴리머와 상기 기판이 접합되도록 상기 기판을 가압하는 기판 가압단계;상기 폴리머를 경화시키는 폴리머 경화단계; 및상기 금속나노와이어층이 매립된 전극필름으로부터 상기 마스터기판을 분리하는 마스터기판 분리단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속나노와이어 전극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속나노와이어층 형성단계는,상기 마스터기판 상에 금속나노와이어가 포함된 금속나노와이어 용액을 도포하는 용액 도포단계; 및상기 금속나노와이어 용액을 미리 설정된 조건에 따라 건조시키며 용매를 제거하는 용액 건조단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속나노와이어 전극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속나노와이어층 형성단계 이전에 수행되고,상기 전극필름과 상기 마스터기판이 격리되도록 상기 마스터기판의 일면을 표면 처리하는 마스터기판 표면처리단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 것을 금속나노와이어 전극 제조방법
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제3항에 있어서,상기 마스터기판 표면처리단계는,상기 마스터기판의 일면에 상기 전극필름과는 상반되는 표면 특성을 가지는 이형성 코팅층을 형성하는 것을 특징으로 하는 금속나노와이어 전극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 폴리머는 특정 파장대의 레이저 빔에 반응하는 광경화성 폴리머 또는 특정 온도의 열에서 반응하는 열경화성 폴리머인 것을 특징으로 하는 금속나노와이어 전극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 투명소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 금속나노와이어 전극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 패턴 형성단계 이후에 수행되고,상기 스탬프 상에 존재하는 비패턴 영역의 금속나노와이어층을 제거하는 스탬프 재사용 준비단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속나노와이어 전극 제조방법
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제7항에 있어서,상기 스탬프의 패터닝 영역은 탄성계수가 10Mpa 이하의 소재를 포함한 복합구조체로 이루어진 것을 특징으로 금속나노와이어 전극 제조방법
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