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수처리용 멤브레인; 및 친수성 고분자 물질로 형성되어 상기 멤브레인에 대해 일체로 마련되는 스페이서; 를 포함하는 수처리장치
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제1항에 있어서, 상기 스페이서는 상기 멤브레인에 대해 적층된 스페이서 지지체로 상기 친수성 고분자 물질을 용액화하여 공급하여 캐스팅(Casting)한 후, 상분리법에 의해 상기 멤브레인에 일체화되며, 상기 스페이서 지지체는 상기 스페이서가 캐스팅된 후에 제거되는 수처리장치
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제1항에 있어서, 상기 스페이서 지지체는 3D 모델링 프로그램에 의해 마련되는 수처리장치
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제1항에 있어서, 상기 스페이서는 파일로트-스케일(Pilot-scale)로 마련되는 수처리장치
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제1항에 있어서,상기 친수성 고분자 물질은 PAN(폴리아크릴로니트릴, polyacrylonitrile)을 포함하는 수처리장치
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제1항에 있어서,상기 스페이서는 다수의 기공을 가지는 수처리장치
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친수성 고분자 용액을 마련하는 용액 마련단계; 상기 용액을 멤브레인에 놓여진 스페이서 지지체로 공급하여 캐스팅(Casting)하여 스페이서 형상을 구현하는 형상 구현단계; 형상 구현된 상기 스페이서로부터 상기 용액을 상분리하여, 상기 멤브레인에 대해 상기 스페이서를 일체화시키는 상분리단계; 및상분리된 상기 스페이서를 건조시키는 건조단계;를 포함하는 스페이서의 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 용액은 친수성 고분자 물질을 용매에 넣어 용액화한 후에 가스가 제거되어 마련되는 스페이서의 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 친수성 고분자 물질은 PAN(폴리아크릴로니트릴, polyacrylonitrile)을 포함하며, 상기 용매는 DMF(다이메틸폼아마이드, dimethylformamide)를 포함하는 스페이서의 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 스페이서 지지체는 3D 모델링 프로그램에 마련되는 스페이서의 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 상분리단계는 형상 구현된 상기 스페이서를 비용제(non-solvent)에 침지시키는 스페이서의 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 건조단계는, 20 내지 30시간 동안 진공 오븐(Vacuum oven)에 건조시켜 상분리된 상기 스페이서에 잔류된 상기 용매를 제거하며, 상기 용매 제거에 의해 상기 스페이서에 다수의 기공이 형성되는 스페이서의 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 PAN은 15 내지 20wt%의 농도를 가지며, 상기 DMF는 80 내지 90wt%의 농도를 가지는 스페이서의 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 형상 구현단계는, 상기 스페이서의 두께를 250 내지 1000μm로 설정하고, 5 내지 15mm/s의 속도로 캐스팅하는 스페이서의 제조 방법
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제7항 내지 제14항 중 어느 한 항에 의해 제조된 스페이서
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