| 1 |
1
피측정물이 놓여지는 기판;상기 기판에 진동을 발생시키도록 구성되는 진동유닛;수정진동자와, 상기 수정진동자에 고정되되 상기 피측정물과 접촉가능하게 마련되는 접촉부재를 갖고, 상기 접촉부재의 종류를 달리하는 복수의 프로브유닛으로서, 선택적으로 어느 하나의 프로브유닛이 상기 기판에 놓여진 피측정물과 접할 수 있도록 구성되는 복수의 프로브유닛;상기 진동유닛에서 발생되는 진동과, 상기 진동유닛에서 발생되는 진동으로부터 피측정물을 통해 상기 수정진동자로 전달되는 진동을 기초로 상기 피측정물의 점탄성력을 연산하는 제어부;를 포함하는 리오미터
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 복수의 프로브유닛 중 선택적으로 어느 하나의 프로브유닛이 피측정물과 접촉할 수 있도록 상기 복수의 프로브유닛의 배치를 변경가능하도록 구성되는 구동유닛;을 포함하는 리오미터
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 진동유닛은,상기 기판을 피측정물이 놓여지는 평면과 나란한 평면방향과, 상기 평면방향에 수직한 상하방향 중 어느 하나의 방향으로 진동시키도록 구성되는 리오미터
|
| 4 |
4
제 3 항에 있어서,상기 수정진동자는,상기 진동유닛이 상기 평면방향으로 진동할 때, 상기 접촉부재도 동일하게 상기 평면방향으로 진동할 수 있도록 배치되는 쉬어모드;상기 진동유닛이 상기 상하방향으로 진동할 때, 상기 접촉부재도 동일하게 상기 상하방향으로 진동할 수 있도록 배치되는 탭핑모드; 중 어느 하나의 모드로 동작하는 리오미터
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 복수의 프로브유닛은,매크로스케일의 피측정물과 접촉가능하게 마련되는 제 1 접촉부재를 갖는 제 1 프로브유닛;마이크로스케일의 피측정물과 접촉가능하게 마련되는 제 2 접촉부재를 갖는 제 2 프로브유닛;나노스케일의 피측정물과 접촉가능하게 마련되는 제 3 접촉부재를 갖는 제 3 프로브유닛;을 포함하는 리오미터
|
| 6 |
6
제 5 항에 있어서,피측정물의 종류에 따라 적용되는 배율을 달리하는 제 1 내지 3 대물렌즈로서, 상기 제 1 내지 3 프로브유닛과 대응되어, 선택적으로 어느 하나의 대물렌즈가 상기 피측정물을 향하도록 구성되는 제 1 내지 3 대물렌즈;를 더 포함하는 리오미터
|
| 7 |
7
제 6 항에 있어서,상기 제 1 내지 3 대물렌즈 중 선택된 대물렌즈를 통해 피측정물로 레이저광을 조사하는 레이저광원;상기 조사된 레이저광이 상기 피측정물에 의해 산란광이 되어 입사되는 라만디텍터로서, 상기 산란광을 분광하는 라만디텍터;를 포함하는 리오미터
|
| 8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 제어부는 다음을 기초로 피측정물의 점성력과 탄성력을 연산하는 리오미터
|
| 9 |
9
제 1 항에 있어서,상기 기판의 온도를 조절하는 온도조절부;상기 수정진동자의 진동을 측정하는 진동측정부;를 더 포함하고,상기 제어부는 상기 온도조절부에 의해 조절된 온도와, 상기 진동유닛의 진동과, 상기 진동측정부에 의해 측정된 진동을 기초로 피측정물의 물성을 연산하는 리오미터
|
