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레이저로 표면처리된 리튬 이차전지용 전극의 제조기술과 이를 이용한 리튬 이차전지

  • 기술번호 : KST2021005465
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 전극의 표면처리를 위한 레이저 가공장치를 개시한다. 본 실시예의 일 측면에 의하면, 리튬이온이 삽입된 실리콘 전극의 표면처리를 위한 레이저 가공장치에 있어서, 레이저 광을 조사하는 광원과 상기 광원에서 조사된 레이저 광을 상기 광원에서 조사된 레이저 광을 리튬이온이 삽입된 실리콘 전극의 표면으로 전달하는 광학계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치를 제공한다.
Int. CL H01M 4/139 (2010.01.01) H01M 4/04 (2006.01.01) B23K 26/352 (2014.01.01) H01M 10/052 (2010.01.01)
CPC H01M 4/139(2013.01) H01M 4/04(2013.01) B23K 26/352(2013.01) H01M 10/052(2013.01)
출원번호/일자 1020190141299 (2019.11.06)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0054952 (2021.05.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.11.06)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정성호 광주광역시 북구
2 김형진 광주광역시 북구
3 박준수 광주광역시 북구
4 서석호 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김태영 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 *** A동, ***호(태정특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2019-1140865-09
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.05.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.07.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0038652-15
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0171610-61
5 [지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
2021.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2021-0490668-00
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2021-0491458-97
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
리튬이온이 삽입된 실리콘 전극의 표면처리를 위한 레이저 가공장치에 있어서,레이저 광을 조사하는 광원;상기 광원에서 조사된 레이저 광을 상기 광원에서 조사된 레이저 광을 리튬이온이 삽입된 실리콘 전극의 표면으로 전달하는 광학계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치
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제1항에 있어서,상기 광학계는,상기 리튬이온이 삽입된 실리콘 전극의 표면 상에서 조사되는 레이저 광의 포커싱 위치를 기 설정된 범위 내에서 조정 가능한 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치
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제1항에 있어서,상기 실리콘 전극은,실리콘, 탄소, 바인더 및 솔벤트가 믹싱되어 제조되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치
4 4
제3항에 있어서,상기 실리콘은,제조과정에서 솔벤트가 휘발되며 솔벤트와 함께 상기 실리콘 전극의 표면으로 이동하여 상기 실리콘 전극의 표면에서 밀집되는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치
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제4항에 있어서,상기 광학계는,레이저 광을 상기 실리콘 전극의 표면으로 전달함으로써, 밀집된 실리콘을 분산시키는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치
6 6
제1항 내지 제5항 중 어느 한항의 레이저 가공장치에 의해 표면처리된 전극
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제6항의 전극을 포함하는 리튬 이차전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.