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표면 처리 OMO 투명전극을 이용하는 히팅 장치

  • 기술번호 : KST2021005509
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금속산화물 표면처리를 이용하여 투명전극을 구성하는 각 층의 두께를 제어하여 성능을 최적화할 수 있도록 한 표면 처리 OMO 투명전극을 이용하는 히팅 장치에 관한 것으로, 기판;상기 기판상에 차례로 적층되는 하부 금속산화물층; 금속층; 상부 금속산화물층;을 포함하고, 상기 금속층을 연속박막의 형태를 이루는 최소 두께로 형성하고, 하부 금속산화물층 및 상부 금속산화물층의 두께를, 면저항이 10 Ω/Sq. 이하인 상태에서 최고투과율 및 가시광선 평균투과율이 최대가 되는 두께로 결정하는 구성을 포함하고, 상기 금속층에 히팅 전원을 공급하는 전원 공급부를 포함하는 것이다.
Int. CL H05B 3/84 (2006.01.01) H05B 3/03 (2006.01.01) H05B 3/20 (2006.01.01) H01B 5/14 (2006.01.01) H01B 1/02 (2006.01.01)
CPC H05B 3/84(2013.01) H05B 3/03(2013.01) H05B 3/20(2013.01) H01B 5/14(2013.01) H01B 1/02(2013.01)
출원번호/일자 1020190132994 (2019.10.24)
출원인 동의대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0048832 (2021.05.04) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 동의대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 부산진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최두호 경상남도 김해시 율하*로 **,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오위환 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)
2 정기택 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2019.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2019-1088690-06
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번호 청구항
1 1
기판;상기 기판상에 차례로 적층되는 하부 금속산화물층; 금속층; 상부 금속산화물층;을 포함하고,상기 금속층을 연속박막의 형태를 이루는 최소 두께로 형성하고, 하부 금속산화물층 및 상부 금속산화물층의 두께를, 면저항이 10 Ω/Sq
2 2
기판;상기 기판상에 차례로 적층되는 하부 금속산화물층; 금속층; 상부 금속산화물층;을 포함하고,상기 금속층을 연속박막의 형태를 이루는 최소 두께로 형성하고,하부 금속산화물층 및 상부 금속산화물층의 두께를, 면저항이 10 Ω/Sq
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 금속층은 Ag이고 연속박막의 형태를 이루는 최소 두께인 8 nm로 고정되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 OMO 투명전극을 이용하는 히팅 장치
4 4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 하부 금속산화물층 및 상부 금속산화물층은 ZnO이고,하부 금속산화물층의 두께는 20-30 nm이고, 상부 금속산화물층의 두께는 40 nm인 것을 특징으로 하는 표면 처리 OMO 투명전극을 이용하는 히팅 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.