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반도체 공정의 입자 측정을 위한 가변형 입자 유출입 장치

  • 기술번호 : KST2021005555
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 반도체 공정의 입자 측정을 위한 가변형 입자 유출입 장치는, 공정 챔버의 배기관을 통해 흐르는 입자가 유입될 수 있도록 통로를 형성하는 유입 포트부, 유입 포트부를 통해 유입된 입자가 배기관으로 다시 배출되도록 통로를 형성하는 유출 포트부, 및 배기관을 통해 흐르는 입자가 유입 포트부로 유입되도록 하고, 유입 포트부를 통해 유입된 입자를 유출 포트부로 배출하는 순환 펌프부를 포함하여 이루어진다. 유입 포트부와 유출 포트부는 배기관에서 분기된 입자 측정용 관의 내부에 설치될 수 있으며, 특히 배기관 내에서 유입 포트부의 말단이 위치하는 지점은 조절 가능하다. 본 발명에 따르면, 공정 챔버로부터 배기관으로 배출되는 입자가 측정 위치로 흐르도록 유도할 수 있으므로, 반도체 공정 장비의 배기관 내 압력 등 환경 조건에 적절히 대응하여, 입자 측정이 정확하게 이루어질 수 있다. 또한, 배기관에 하나의 입자 측정용 관만을 연결하면 되므로, 더욱 간단하고 경제적으로 구현할 수 있다.
Int. CL G01N 1/24 (2006.01.01) G01N 15/02 (2006.01.01) H01L 21/66 (2006.01.01)
CPC G01N 1/24(2013.01) G01N 15/0205(2013.01) H01L 22/10(2013.01)
출원번호/일자 1020190140615 (2019.11.06)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0055114 (2021.05.17) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.11.06)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강상우 대전광역시 서구
2 문지훈 대전시 유성구
3 김종호 대전광역시동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길* (역삼동, 조이타워), ***호(대신특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2019.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2019-1136331-91
2 보정요구서
Request for Amendment		 2019.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0182683-28
3 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2019.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2019-1277279-21
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2020.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2020.10.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0021769-50
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2021.02.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0112141-32
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
 2021.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2021-0260186-11
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2021.03.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-0260187-67
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번호 청구항
1 1
공정 챔버의 배기관을 통해 흐르는 입자가 유입될 수 있도록 통로를 형성하는 유입 포트부;상기 유입 포트부를 통해 유입된 입자가 상기 배기관으로 다시 배출되도록 통로를 형성하는 유출 포트부; 및상기 배기관을 통해 흐르는 입자가 상기 유입 포트부로 유입되도록 하고, 상기 유입 포트부를 통해 유입된 입자를 상기 유출 포트부로 배출하는 순환 펌프부를 포함하는, 반도체 공정의 입자 측정을 위한 가변형 입자 유출입 장치
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제 1 항에 있어서,상기 유입 포트부와 유출 포트부는 상기 배기관에서 분기된 입자 측정용 관의 내부에 설치되는, 반도체 공정의 입자 측정을 위한 가변형 입자 유출입 장치
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제 2 항에 있어서,상기 유출 포트부의 말단은 상기 입자 측정용 관이 위치한 곳에서 상기 배기관이 입자를 배출하는 방향으로 일정 거리만큼 더 진행한 위치까지 굽은 형태로 구성되는, 반도체 공정의 입자 측정을 위한 가변형 입자 유출입 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 배기관 내에서 상기 유입 포트부의 말단이 위치하는 지점은 조절 가능한 것을 특징으로 하는, 반도체 공정의 입자 측정을 위한 가변형 입자 유출입 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 유입 포트부의 중심축과 상기 유입 포트부의 말단면이 이루는 각도는 90도 미만인, 반도체 공정의 입자 측정을 위한 가변형 입자 유출입 장치
6 6
제 2 항에 있어서,상기 가변형 입자 유출입 장치는 상기 입자 측정용 관에 장착할 수 있는 일체형 모듈의 형태로 구성되는 것을 특징으로 하는, 반도체 공정의 입자 측정을 위한 가변형 입자 유출입 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국표준과학연구원 국가연구개발사업 [4-4] 산업측정장비 핵심기술 개발