맞춤기술찾기

이전대상기술

각감응성 분광 필터 및 바이모르프 회전 구동기를 포함하는 가변 분광 필터 모듈

  • 기술번호 : KST2021005634
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 가변 분광 필터 모듈은, 각감응성을 갖는 플라즈모닉 분광 필터, 자유 단인 제1 단부와 고정 단인 제2 단부를 포함하고, 상기 플라즈모닉 분광 필터가 상기 제1 단부에 가깝게 치우쳐 안착되는 구동 평판, 상기 구동 평판의 제2 단부가 고정되는 프레임, 및 상기 구동 평판의 제1 단부와 제2 단부의 사이에 위치하는 바이모르프(bimorph) 회전 구동기를 포함한다.
Int. CL G02B 5/20 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020200037122 (2020.03.26)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0056205 (2021.05.18) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020190142804   |   2019.11.08
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.03.26)
심사청구항수 19

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정기훈 대전광역시 유성구
2 안명수 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.03.26 수리 (Accepted) 1-1-2020-0319775-20
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.02.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
각감응성을 갖는 플라즈모닉 분광 필터;자유 단인 제1 단부와 고정 단인 제2 단부를 포함하고, 상기 플라즈모닉 분광 필터가 상기 제1 단부에 가깝게 치우쳐 안착되는 구동 평판;상기 구동 평판의 제2 단부가 고정되는 프레임; 및상기 구동 평판의 제1 단부와 제2 단부의 사이에 위치하는 바이모르프(bimorph) 회전 구동기를 포함하는 가변 분광 필터 모듈
2 2
제 1 항에 있어서,상기 플라즈모닉 분광 필터는,유전체 기판;상기 유전체 기판 상에 위치하고 복수의 나노 홀(nano hole)을 갖는 제1 유전체 층;상기 제1 유전체 층의 복수의 나노 홀 내에 위치하는 제1 하부 금속 구조 층; 및상기 제1 유전체 층 상에 위치하며 상기 제1 하부 금속 구조 층과 다른 층을 이루며 형성된 제1 상부 금속 구조 층을 포함하는, 가변 분광 필터 모듈
3 3
제 2 항에 있어서,상기 복수의 나노 홀은 서로 이격되어 각각 독립적으로 형성된, 가변 분광 필터 모듈
4 4
제 3 항에 있어서,상기 복수의 나노 홀은 상기 유전체 기판 상에서 가로 및 세로 방향으로 정렬된, 가변 분광 필터 모듈
5 5
제 2 항에 있어서,상기 복수의 나노 홀은 원형의 평면을 갖는, 가변 분광 필터 모듈
6 6
제 5 항에 있어서,상기 제1 하부 금속 구조 층은 원형의 나노 디스크로 이루어지는, 가변 분광 필터 모듈
7 7
제 2 항에 있어서,상기 제1 상부 금속 구조 층은 서로 연결되어 일체로 형성된, 가변 분광 필터 모듈
8 8
제 2 항에 있어서,상기 복수의 나노 홀 각각의 깊이는 상기 제1 하부 금속 구조 층의 두께보다 더 크게 형성된, 가변 분광 필터 모듈
9 9
제 2 항에 있어서,상기 제1 하부 금속 구조 층은 상기 복수의 나노 홀 내에서 상기 유전체 기판 상에 위치하는, 가변 분광 필터 모듈
10 10
제 2 항에 있어서,상기 제1 하부 금속 구조 층은 상기 복수의 나노 홀 내에 각각 복수 개가 형성되고, 상기 복수의 제1 하부 금속 구조 층은 서로 독립적인 층으로 형성된, 가변 분광 필터 모듈
11 11
제 1 항에 있어서,상기 구동 평판은 질화규소(Si3N4)막으로 이루어지는, 가변 분광 필터 모듈
12 12
제 11 항에 있어서,상기 바이모르프 회전 구동기는 상기 구동 평판에 알루미늄(Al) 층이 패터닝 된, 가변 분광 필터 모듈
13 13
제 1 항에 있어서,상기 프레임은 상기 플라즈모닉 분광 필터가 위치하는 영역이 개구된 사각의 실리콘(silicon) 프레임으로 이루어지는, 가변 분광 필터 모듈
14 14
제 1 항에 있어서,상기 구동 평판의 일면에 상기 제1 단부의 가장자리의 적어도 일부를 따라 연장하도록 위치하는 보강 블록을 더 포함하는 가변 분광 필터 모듈
15 15
제 14 항에 있어서,상기 보강 블록은 상기 구동 평판의 일면으로부터 상기 프레임의 높이만큼 돌출되는 실리콘 블록으로 이루어지는, 가변 분광 필터 모듈
16 16
실리콘 기판 상에 질화규소막을 증착하고 그 위에 광경화성 수지를 도포하는 단계;임프린트 금형을 상기 광경화성 수지 상에 임프린팅 하여 패터닝된 유전체 층을 형성하는 단계;상기 패터닝된 유전체 층 상에 플라즈모닉 금속막을 증착시켜 플라즈모닉 분광 필터를 형성하는 단계;상기 플라즈모닉 분광 필터의 일측에서 상기 질화규소막 상에 알루미늄 패턴을 증착하는 단계;상기 플라즈모닉 분광 필터의 다른 일측의 상기 질화규소막의 가장자리를 식각하여 제거하는 단계; 및상기 실리콘 기판을 후면 식각(backside etching)하여 상기 질화규소막의 제1 단부는 자유 단을 이루고 제2 단부는 고정 단을 이루도록 상기 실리콘 기판의 중앙에 개구부를 형성하는 단계를 포함하는, 가변 분광 필터 모듈의 제조 방법
17 17
제 16 항에 있어서,복수의 돌기를 갖는 마스터 금형을 마련하는 단계; 및광투과성 수지로 상기 마스터 금형을 복제하여 상기 임프린트 금형을 마련하는 단계를 더 포함하는, 가변 분광 필터 모듈의 제조 방법
18 18
제 16 항에 있어서,상기 증착된 플라즈모닉 금속막을 부분적으로 세정하고 남은 상기 광경화성 수지를 제거하는 단계를 더 포함하는 가변 분광 필터 모듈의 제조 방법
19 19
제 16 항에 있어서,상기 실리콘 기판의 중앙에 개구부를 형성하는 단계는 상기 질화규소막의 제1 단부의 가장자리의 적어도 일부를 따라 연장하도록 상기 실리콘 기판의 일부를 남겨 보강 블록을 형성하는 과정을 더 포함하는, 가변 분광 필터 모듈의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.