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유전체 기판;상기 유전체 기판 상에 위치하고 복수의 나노 홀(nano hole)을 갖는 제1 유전체 층;상기 제1 유전체 층의 복수의 나노 홀 내에 위치하는 제1 하부 금속 구조 층; 및상기 제1 유전체 층 상에 위치하며 상기 제1 하부 금속 구조 층과 다른 층을 이루며 형성된 제1 상부 금속 구조 층을 포함하고,상기 제1 상부 금속 구조 층에 의해 다중 공진 모드를 발현하고, 상기 제1 상부 금속 구조 층과 제1 하부 금속 구조 층에 의해 상기 다중 공진 모드에 추가되어 추가 공진 모드가 발현할 수 있는 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 나노 홀은 서로 이격되어 각각 독립적으로 형성된, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 2 항에 있어서,상기 복수의 나노 홀은 상기 유전체 기판 상에서 가로 및 세로 방향으로 정렬된, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 나노 홀 각각은 원형의 횡단면을 갖는, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 4 항에 있어서,상기 제1 하부 금속 구조 층은 원형의 나노 디스크로 이루어지는, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 제1 상부 금속 구조 층은 서로 연결되어 일체로 형성된, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 나노 홀 각각의 깊이는 상기 제1 하부 금속 구조 층의 두께보다 더 크게 형성된, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 제1 하부 금속 구조 층은 상기 복수의 나노 홀 내에서 상기 유전체 기판 상에 위치하는, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 제1 하부 금속 구조 층은 상기 복수의 나노 홀 내에 각각 형성되고, 상기 복수의 제1 하부 금속 구조 층은 서로 독립적인 층으로 형성된, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 제1 하부 금속 구조 층 및 제1 상부 금속 구조 층을 덮도록 상기 제1 유전체 층 상에 위치하고, 복수의 나노 홀을 갖는 제2 유전체 층;상기 제2 유전체 층의 복수의 나노 홀 내에 위치하는 제2 하부 금속 구조 층; 및상기 제2 유전체 층 상에 위치하며 상기 제2 하부 금속 구조 층과 다른 층을 이루며 형성된 제2 상부 금속 구조 층을 포함하는 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 10 항에 있어서,상기 제2 유전체 층은 상기 제1 유전체 층의 나노 홀을 메우고 상기 제1 하부 금속 구조 층 상에 형성되는, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 10 항에 있어서,상기 제1 유전체 층의 나노 홀과 상기 제2 유전체 층의 나노 홀은 평면상에서 볼 때 서로 중첩되게 배치되는, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 유전체 기판의 주면에 수직하게 측정된 두께는 1 내지 3㎛의 범위에 속하도록 형성되는, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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제 1 항에 있어서,상기 유전체 기판과 상기 제1 상부 금속 구조 층 사이에서의 수직 거리로 측정되는 상기 제1 유전체층의 높이는 260 내지 300nm의 범위에 속하도록 형성되는, 플라즈모닉 각감응 분광 필터
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