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광전자 장치 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2021006349
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 수광 및 발광이 가능한 온-칩 광전자 소자를 포함하는 광전자 장치 및 이의 제조 방법이 제시된다.
Int. CL H01L 51/42 (2006.01.01) H01L 31/12 (2006.01.01) H01L 31/032 (2006.01.01) H01L 33/26 (2010.01.01) H01L 51/00 (2006.01.01)
CPC H01L 51/4213(2013.01) H01L 31/12(2013.01) H01L 31/032(2013.01) H01L 33/26(2013.01) H01L 51/0077(2013.01) Y10S 977/812(2013.01)
출원번호/일자 1020190145396 (2019.11.13)
출원인 삼성전자주식회사, 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0058203 (2021.05.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정종원 대한민국 경기도 화성
2 최석호 경기도 수원시 영통구
3 허성 대한민국 경기도 수원시 영통구
4 김성 경기도 수원시 영통구
5 김용철 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2019-1166537-36
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광전자 소자; 제1구동부; 및 제2구동부를 포함하고,상기 제1구동부와 상기 제2구동부는 각각 상기 광전자 소자와 전기적으로 연결되고, 수광 모드에서 상기 광전자 소자가 제1구동부에 의하여 구동되고,발광 모드에서 상기 광전자 소자가 제2구동부에 의하여 구동되고,상기 광전자 소자는 제1전극; 제2전극; 및 상기 제1전극 및 상기 제2전극 사이에 개재된 광전변환층; 을 포함하고,상기 광전변환층은 3차원 페로브스카이트를 포함하는 제1층; 및2차원 페로브스카이트를 포함하는 제2층;을 포함하는, 광전자(optoelectic) 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 제1구동부는 상기 제1전극 및 상기 제2전극 사이에 형성된 전력을 수집하고,상기 제2구동부는 상기 제1전극 및 상기 제2전극 사이에 전력을 인가하는, 광전자 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 제1구동부와 상기 제2구동부가 전기적으로 연결되어, 상기 제1구동부에서 수집된 전력을 상기 제2구동부에 공급하는, 광전자 장치
4 4
제1항에 있어서,센서부를 더 포함하고,상기 센서부는 외광을 감지하여 상기 수광 모드와 상기 발광 모드를 결정하는, 광전자 장치
5 5
제1항에 있어서,상기 제1층과 상기 제2층은 직접 접촉하는, 광전자 장치
6 6
제2항에 있어서,상기 발광 모드에서 상기 제1층과 상기 제2층의 계면에서 광이 방출되는, 광전자 장치
7 7
제1항에 있어서,상기 2차원 페로브스카이트의 밴드갭과 상기 3차원 페로브스카이트의 밴드갭은 서로 상이한, 광전자 장치
8 8
제1항에 있어서,상기 2차원 페로브스카이트의 밴드갭은 상기 3차원 페로브스카이트의 밴드갭보다 큰, 광전자 장치
9 9
제1항에 있어서,상기 2차원 페로브스카이트의 밴드갭과 상기 3차원 페로브스카이트의 밴드갭의 차이는 0
10 10
제1항에 있어서,상기 3차원 페로브스카이트는 하기 화학식 1로 표시되고,상기 2차원 페로브스카이트는 하기 화학식 2로 표시되는, 광전자 장치
11 11
제10항에 있어서,A1은 NH4, CH3NH3, C2H5NH3, (CH3)2NH2, CH(NH2)2, Li, Na, K, Rb, Cs, Fr 또는 이의 임의의 조합이고, A2 및 A3는 서로 독립적으로, 아닐리늄(anilinium), 페닐메틸암모늄, 페닐에틸암모늄, C4-C10알킬암모늄, 또는 이의 임의의 조합이고; B1 및 B2는 서로 독립적으로, Pb, Sn, Bi, Sb, Cu, Ag 또는 Au 이의 임의의 조합이고; X1 및 X2는 서로 독립적으로, Cl, Br, I 또는 이의 임의의 조합이고;n은 1 이상의 정수이다
12 12
제10항에 있어서,A1은 CH3NH3, CH(NH2)2, Cs, 또는 이의 임의의 조합이고, A2 및 A3는 서로 독립적으로, 페닐에틸암모늄이고; B1 및 B2는 서로 독립적으로, Pb이고; X1 및 X2는 서로 독립적으로, Br, I 또는 이의 임의의 조합이고;n은 1이다
13 13
제1항에 있어서,상기 3차원 페로브스카이트는 하기 화학식 1-1로 표시되고,상기 2차원 페로브스카이트는 하기 화학식 2-1로 표시되는, 광전자 장치
14 14
제1항에 있어서,상기 제1전극 및 상기 제2전극 중 적어도 하나는 10 nm 내지 1 mm 범위의 파장을 갖는 광에 대하여 75% 이상 투과도를 갖는, 광전자 장치
15 15
제1항에 있어서, 상기 제1전극과 상기 광전변환층 사이에 개재된 제1전하 수송 영역 및/또는 상기 광전변환층과 상기 제2전극 사이에 개재된 제2전하 수송 영역을 포함하는, 광전자 장치
16 16
제15항에 있어서, 상기 제1전하 수송 영역은 금속 산화물을 포함하는, 광전자 장치
17 17
제15항에 있어서, 상기 제1전하 수송 영역은 TiO2, ZnO, SrTiO3, WO3 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 광전자 장치
18 18
제15항에 있어서, 상기 제2전하 수송 영역은 정공 수송성 유기 단분자 화합물, 정공 수송성 유기 고분자 화합물, 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는, 광전자 장치
19 19
제15항에 있어서, 상기 제2전하 수송 영역은 spiro-MeOTAD (2,2,7,7'-tetrakis-(N,N-di-p-methoxyphenyl-amine)-9,9'-spirobifluoren), 폴리(3-헥실티오펜), 4-tert-부틸피리딘, Li-TFSI 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는, 광전자 장치
20 20
제1전극; 제2전극; 및 상기 제1전극 및 상기 제2전극 사이에 개재된 광전 변환층; 을 포함하는 광전자 소자를 제공하는 단계; 및상기 광전자 소자와 전기적으로 연결된 제1구동부 및 제2구동부를 제공하는 단계;를 포함하고,상기 광전 변환층은 상기 제1전극 상에 3차원 페로브스카이트 용액을 제공하여 제1층을 형성하고, 상기 제1층 상에 2차원 페로브스카이트 용액을 제공하여 제2층을 형성함으로써 제공되는, 광전자 장치의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.