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복수의 반응 영역들이 형성된 반응 스트립; 상기 반응 영역들로 광을 발생하는 적어도 하나의 광원을 포함하는 광원유닛; 상기 반응 영역들에서 반사되는 광을 수광하는 복수의 수광부들을 포함하는 수광유닛; 및상기 수광부들 각각에서 수신된 수광신호를 설정값과 동일하도록 상기 광원의 광출력을 제어하는 제어부를 포함하는 제어유닛을 포함하는 신호보정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 수광부들 각각은 상기 반응 영역들 각각에 대응되도록 위치하는 것을 특징으로 하는 신호보정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제어유닛은, 상기 광원을 선택적으로 동작시키는 광원 선택부; 상기 동작되는 광원의 광출력을 조절하는 광출력 조절부; 상기 수광부를 선택적으로 동작시키는 수광부 선택부; 및상기 수광부의 수광신호를 획득하는 수광신호 수신부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 신호보정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제어유닛은, 상기 수광신호가 상기 설정값과 동일한 경우의 상기 광원의 광출력을 저장하는 저장부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 신호보정 시스템
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제4항에 있어서, 상기 설정값은, 초기 설정된 광출력에 대하여 상기 수광부들 각각에서 수신된 수광신호들의 평균값이고, 상기 제어유닛은, 상기 수광신호들의 평균값을 연산하는 연산부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 신호보정 시스템
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제4항에 있어서, 상기 설정값은, 상기 수광신호의 최대값과 최소값의 사이의 임의의 값으로 사용자가 지정한 지정값인 것을 특징으로 하는 신호보정 시스템
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복수의 반응 영역들이 형성된 반응 스트립, 광을 발생하는 적어도 하나의 광원을 포함하는 광원유닛, 및 광을 수광하는 복수의 수광부들을 포함하는 수광유닛을 포함하는 신호 보정 시스템을 이용한 신호 보정방법에서, 검체의 투입 전, 상기 수광부들 각각에서 수신된 수광신호를 설정값과 동일하도록 상기 광원의 광출력을 제어하는 단계(제1 단계); 및상기 검체의 투입 후, 상기 제어된 광원의 광출력으로 출력되는 광에 대한 수광신호를 획득하는 단계(제2 단계)를 포함하는 신호 보정방법
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제7항에 있어서, 상기 제1 단계는, 광원의 개수 및 수광부의 개수를 바탕으로, 광의 경로를 분류하는 단계; 상기 분류된 광의 경로들 각각에서, 초기 설정된 광출력으로 발생하는 광에 대하여, 상기 수광부들 각각에서 수광신호를 획득하는 단계; 상기 수광부들 각각에서의 수광신호와 상기 설정값을 비교하는 단계; 및상기 수광신호와 상기 설정값의 비교를 바탕으로 상기 광원의 광출력을 저장 또는 변경하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 신호 보정방법
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제8항에 있어서, 상기 광원의 광출력을 저장 또는 변경하는 단계에서, 상기 수광신호와 상기 설정값이 동일한 경우, 상기 광원의 광출력을 저장하고, 상기 수광신호와 상기 설정값이 다른 경우, 상기 수광신호와 상기 설정값이 동일할 때까지, 상기 광원의 광출력을 변경하며 상기 수광신호를 획득하는 것을 특징으로 하는 신호 보정방법
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제9항에 있어서, 상기 광원의 광출력을 변경하는 단계에서, 상기 분류된 광의 경로들 각각에 포함된 광원별로 광출력을 변경하는 것을 특징으로 하는 신호 보정방법
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제8항에 있어서, 상기 제1 단계는, 상기 수광신호를 획득하는 단계 이후, 상기 획득된 수광신호들의 평균값을 연산하여, 상기 평균값을 상기 설정값으로 설정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 신호 보정방법
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제8항에 있어서, 상기 설정값은, 상기 수광신호의 최대값과 최소값의 사이의 임의의 값으로 사용자가 지정한 지정값인 것을 특징으로 하는 신호 보정방법
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