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미세기공이 형성된 박테리아 셀룰로오스 막;상기 미세기공을 채워서 형성되는 고분자함침층; 및상기 셀룰로오스막 및 고분자함침층 표면에 형성되는 고분자코팅층;을 포함하는 고분자복합막
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제 1 항에 있어서,상기 고분자함침층 및 상기 고분자코팅층은 나피온, 3M 이오노머, 퓨미온 이오노머, 술폰화 폴리페닐렌옥사이드(sulfonated polypropyleneoxide), 술폰화 폴리이미드(sulfonated polyimide, S-PI), 술폰화 폴리아릴에테르술폰(sulfonated polyarylethersulfone, S-PAES), 술폰화 폴리에테르에테르케톤(sulfonated polyetheretherketone, S-PEEK), 술폰화 폴리벤즈이미다졸(sulfonated polybenzimidazole, S-PBI), 술폰화 폴리술폰(sulfonated polysulfone, S-PSU), 술폰화 폴리스티렌(sulfonated polystyrene, S-PS), 술폰화 폴리포스파젠(sulfonated polyphosphazene) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 유기고분자로 구성되는 것을 특징으로 하는 고분자복합막
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제 1 항에 있어서,무가습 상태에서 막의 두께는 5-200 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 고분자복합막
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제 3 항에 있어서,투명한 것을 특징으로 하는 고분자복합막
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유기고분자용액을 준비하는 단계; 상기 유기고분자용액을 박테리아 셀룰로오스막에 함침시켜 고분자함침층을 형성하는 단계;상기 박테리아 셀룰로오스막 및 상기 고분자함침층의 표면에 고분자코팅층을 형성하여 전구체고분자막을 얻는 단계; 및상기 전구체고분자막으로부터 고분자복합막을 얻는 단계;를 포함하는 고분자복합막 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 유기고분자용액에 포함된 유기고분자는 나피온, 3M 이오노머, 퓨미온 이오노머, 술폰화 폴리페닐렌옥사이드(sulfonated polypropyleneoxide), 술폰화 폴리이미드(sulfonated polyimide, S-PI), 술폰화 폴리아릴에테르술폰(sulfonated polyarylethersulfone, S-PAES), 술폰화 폴리에테르에테르케톤(sulfonated polyetheretherketone, S-PEEK), 술폰화 폴리벤즈이미다졸(sulfonated polybenzimidazole, S-PBI), 술폰화 폴리술폰(sulfonated polysulfone, S-PSU), 술폰화 폴리스티렌(sulfonated polystyrene, S-PS), 술폰화 폴리포스파젠(sulfonated polyphosphazene) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 고분자복합막 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 유기고분자용액에 포함된 용매는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올을 포함하는 알콜계 용매 ; 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디부틸에테르, 부틸에틸에테르, 테트라하이드로퓨란을 포함하는 에테르계 용매 ; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리모노부틸에테르를 포함하는 알콜 에테르계 용매 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논을 포함하는 케톤계 용매 ; N-메틸-2-피릴리디논, 2-피릴리디논, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드를 포함하는 아미드계 용매 ; 디메틸술폭사이드, 디에틸술폭사이드를 포함하는 술폭사이드계 용매 ; 디에틸술폰, 테트라메틸렌 술폰을 포함하는 술폰계 용매 ; 아세토니트릴, 벤조니트릴을 포함하는 니트릴 용매 ; 알킬아민, 시클릭 아민, 아로마틱 아민을 포함하는 아민계 용매 ; 메틸 부틸레이트, 에틸부틸레레이트, 프로필프로피오네이트를 포함하는 에스테르계 용매 ; 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트를 포함하는 카르복실산 에스테르계 용매 ; 벤젠, 에틸벤젠, 클로로벤젠, 톨루엔, 자일렌을 포함하는 방향족 탄화수소계 용매 ; 헥산, 헵탄, 시클로헥산을 포함하는 지방족 탄화수소계 용매 ; 클로로포름, 테트라클로로에틸렌, 카본테트라클로라이드, 디클로로메탄을 포함하는 할로겐화된 탄화수소계 용매 ; 프로필렌카보네이트, 에틸렌 카보네이트, 디메틸카보네이트, 디부틸카보네이트, 에틸메틸카보네이트, 니트로메탄, 니트로벤젠으로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고분자복합막 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 고분자함침층을 형성하는 단계는 상기 박테리아 셀룰로오스막의 양단부를 텐션이 가해지도록 고정하고, 그 상면에서 하부로 중량이 가해지도록 중량물이 설치되어 유기고분자용액에 침지되도록 하는 단계; 및 상기 중량물을 상기 유기고분자용액에 침지된 박테리아 셀룰로오스막 상에서 다수회 이동시키는 과정을 반복수행하여 고분자함침층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자복합막 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 전구체고분자막을 얻는 단계는 필링이 용이한 지지막을 준비하는 단계; 및 상기 지지막 상에 상기 고분자함침층이 형성된 박테리아셀룰로오스막과 상기 유기고분자용액을 캐스팅하여 고분자코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자복합막 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 고분자복합막을 얻는 단계는 상기 전구체고분자막을 건조하는 단계; 및 상기 건조된 전구체고분자막의 하부에 배치된 지지막을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자복합막 제조방법
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 고분자복합막 또는 제 5 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 고분자복합막을 포함하는 에너지저장장치
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제 11 항에 있어서,상기 에너지저장장치는 레독스흐름전지, 연료전지 또는 울트라 전지인 것을 특징으로 하는 에너지저장장치
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 고분자복합막 또는 제 5 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 고분자복합막을 포함하는 수처리장치
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