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비계면활성제형 RAFT 에멀젼 중합을 이용한 인을 함유하는 난연성 입자, 첨가형 난연제, 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2021006498
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 비계면활성제형 RAFT 에멀젼 중합을 이용한 인을 함유하는 난연성 입자, 첨가형 난연제, 및 그의 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 친수성기를 포함하는 반응성 RAFT제와 인을 포함하는 스타이렌 계열의 단량체를 계면활성제의 첨가 없이 RAFT 에멀젼 중합반응을 통해 합성된 난연성이 향상된 난연성 입자, 첨가형 난연제, 및 그의 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명에 따르면 상기 인을 함유하는 난연성 입자는 수상에서 분산되어 첨가형 난연제 형태로 제공되어 점착제, 접착제나 도료 등의 수지에 첨가제로써 적용이 가능하며 건축물, 자동차는 물론 이차전지에도 적용 가능한 난연성 입자, 첨가형 난연제, 및 그의 제조방법을 제공한다.
Int. CL C08F 230/02 (2006.01.01) C08F 212/14 (2006.01.01) C08G 81/02 (2006.01.01) C08F 293/00 (2006.01.01) C08F 2/22 (2006.01.01) C09K 21/14 (2006.01.01) C09K 21/12 (2006.01.01)
CPC C08F 230/02(2013.01) C08F 212/14(2013.01) C08G 81/025(2013.01) C08F 293/00(2013.01) C08F 2/22(2013.01) C09K 21/14(2013.01) C09K 21/12(2013.01) C08F 2438/03(2013.01)
출원번호/일자 1020200004013 (2020.01.13)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-2255617-0000 (2021.05.18)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20210525) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.01.13)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이원주 대전광역시 유성구
2 임충선 대전광역시 유성구
3 서봉국 대전광역시 유성구
4 김태윤 대전광역시 유성구
5 송주현 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.01.13 수리 (Accepted) 1-1-2020-0033032-07
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.10.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0024898-56
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.02.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0121709-76
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.03.09 수리 (Accepted) 1-1-2021-0276407-36
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.03.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-0276406-91
7 등록결정서
Decision to grant
2021.05.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0369928-17
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번호 청구항
1 1
하기 화학식 2로 표시되는 화합물; 및 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물;을 중합하여 하기 화학식 1로 표시되는 인을 함유하는 난연성 입자를 제조하는 방법:[화학식 1][화학식 2][화학식 3]상기 화학식 1에서, m은 32 내지 130이고, n은 45 또는 90이며,상기 화학식 2에서, n은 45 또는 90이고,상기 화학식 1 및 화학식 3에서, Et는 에틸기이다
2 2
제1항에 있어서,상기 중합은 비계면활성제형(surfactant-free) RAFT 에멀젼(emulsion) 중합법으로 수행되는 것을 특징으로 하는,인을 포함하는 난연성 입자를 제조하는 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 2000 내지 4000의 수평균분자량을 갖는 폴리에틸렌글리콜(poly(ethylene glycol))을 포함하는 것을 특징으로 하는,인을 포함하는 난연성 입자를 제조하는 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 상기 인을 포함하는 난연성 입자에 대하여 5 내지 16 중량%로 포함된 것을 특징으로 하는,인을 포함하는 난연성 입자를 제조하는 방법
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서,인(P)을 7
7 7
제2항에 있어서,상기 비계면활성제형(surfactant-free) RAFT 에멀젼(emulsion) 중합법은 4-4'-아조비스-4-시아노펜탄산(ACPA, 4,4'-azobis-4-cyanopentanoic acid)을 라디칼 개시제로 사용하는 것을 특징으로 하는,인을 포함하는 난연성 입자를 제조하는 방법
8 8
하기 화학식 1로 표시되는 인을 함유하는 난연성 입자:[화학식 1]상기 화학식 1에서, m은 32 내지 130이고, n은 45 또는 90이며, Et는 에틸기이다
9 9
제8항에 있어서,2000 내지 4000의 수평균분자량을 갖는 폴리에틸렌글리콜(poly(ethylene glycol))을 포함하는 것을 특징으로 하는,인을 포함하는 난연성 입자
10 10
삭제
11 11
제8항에 있어서,상기 난연성 입자에 대하여 인 함량이 7
12 12
제8항, 제9항 및 제11항 중 어느 한 항의 인을 포함하는 난연성 입자를 물에 분산시킨 것을 특징으로 하는 첨가형 난연제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국화학연구원 한국화학연구원연구운영비지원(R&D)(주요사업비) 자동차-화학 융합산업기술 개발 사업