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전처리용액의 100% 부피에 대하여,질산(NHO3) 30% 내지 60%;불산(HF) 20% 내지 35%; 및증류수 20% 내지 35%;를 포함하는 저온진공침탄용 전처리용액
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제1항에 있어서,상기 질산은 60%농도의 수용액인 저온진공침탄용 전처리용액
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제1항에 있어서,상기 불산은 55%농도의 수용액인 저온진공침탄용 전처리용액
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대상금속을 전처리용액에 침지하여 전처리를 수행하는 (a)단계;상기 대상금속을 반응챔버에 투입하고, 상기 반응챔버 내의 온도를 기 설정된 온도범위로 승온시키는 (b)단계; 및상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 반응가스를 주입하여 저온진공침탄공정을 수행하는 (c)단계;를 포함하며,상기 전처리용액은,상기 전처리용액의 100% 부피에 대하여,질산(NHO3) 30% 내지 60%;불산(HF) 20% 내지 35%; 및증류수 20% 내지 35%;를 포함하는 저온진공침탄방법
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제4항에 있어서,상기 (c)단계는,상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 반응가스를 주입하여 침탄을 가속시키는 (c-1)단계;상기 반응가스의 주입을 중단하고, 상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하여 진공을 확산시키는 (c-2)단계; 및상기 (c-1)단계 및 상기 (c-2)단계를 기 설정된 시간 간격으로 반복 수행하는 (c-3)단계;를 포함하는 저온진공침탄방법
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제4항에 있어서,상기 (c)단계 이후에는,상기 대상금속을 냉각하는 (d)단계가 더 포함되는 저온진공침탄방법
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제4항에 있어서,상기 전처리용액에 포함된 질산은 60%농도의 수용액인 저온진공침탄방법
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제4항에 있어서,상기 전처리용액에 포함된 불산은 55%농도의 수용액인 저온진공침탄방법
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