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페로브스카이트 화합물을 준비하는 단계;상기 페로브스카이트 화합물을 제1 용매 및 제2 용매에 혼합하여 페로브스카이트 용액을 제조하는 단계;기판 상에 상기 페로브스카이트 용액을 스프레이 코팅하여 페로브스카이트막을 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1 용매는 상기 제2 용매보다 상기 페로브스카이트 화합물에 대하여 용해도가 큰 것이며,상기 제1 용매는 상기 제2 용매보다 끓는점(boiling point)이 높고 증기압(vapor pressure)이 낮은 것이며,상기 제1 용매는 디메틸설폭사이드(DMSO, dimethyl sulfoxide)이고,상기 제2 용매는 디메틸포름아미드(DMF, N,N-dimethylformamide)이며,상기 페로브스카이트 막의 결정 크기는 상기 제1 용매 대비 상기 제2 용매의 부피가 증가함에 따라 점진적으로 감소되고,상기 제1 용매와 상기 제2 용매의 부피비는 9:1 내지 8:2 이며,상기 제1 용매 및 상기 제2 용매 간의 용해도 상수(solubility parameter)의 차이가 0
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제1항에 있어서, 상기 페로브스카이트 용액을 스프레이 코팅하여 페로브스카이트막을 형성하는 단계는,상기 기판과 스프레이 노즐 사이의 거리가 0
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제1항에 있어서, 상기 페로브스카이트 용액을 스프레이 코팅하여 페로브스카이트막을 형성하는 단계는,상기 페로브스카이트 용액의 유속이 0
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제1항에 있어서, 상기 스프레이 코팅은 1 초 내지 48 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트막의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 페로브스카이트막의 페로브스카이트 결정 입자의 크기는 상기 스프레이 코팅 시간에 따라 제어되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 페로브스카이트막의 페로브스카이트 결정 입자의 크기는 상기 제1 용매 및 상기 제2 용매의 부피비에 따라 제어되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 페로브스카이트 화합물은 단일(single) 구조, 이중(double) 구조, 삼중(triple) 구조 또는 루들스덴-포퍼(Ruddlesden-Popper) 구조인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 페로브스카이트막의 페로브스카이트 결정 입자의 크기는 5 ㎚ 내지 500 nm인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트막의 제조방법
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제1 전극; 상기 제1 전극 상에 형성된 정공 전달층;상기 정공 전달층 상에 형성된 활성층; 상기 활성층 상에 형성된 전자 전달층; 및상기 전자 전달층 상에 형성된 제2 전극을 포함하고, 상기 활성층은 제1항의 방법에 의해 제조된 페로브스카이트막을 포함하는 페로브스카이트 광전소자
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제9항에 있어서, 상기 페로브스카이트막의 페로브스카이트 결정 입자는 큐빅(cubic) 결정구조 또는 정방정(tetragonal) 결정 구조인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 광전소자
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제9항에 있어서, 상기 페로브스카이트막의 페로브스카이트 결정 입자의 크기는 5 ㎚ 내지 500 nm인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 광전소자
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제9항에 있어서,상기 활성층의 발광스펙트럼의 선폭(FWHM: full width at half maximum)은 1 nm 내지 30 nm 인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 광전소자
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제9항에 있어서,상기 페로브스카이트 광전소자의 발광수명(T50, at 100 cd/m2)은 2,000시간 내지 20,000,000 시간인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 광전소자
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