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플라즈마 반응으로 생성된 플라즈마 제트와 일측으로 유입되는 대상가스를 토출하는 복수의 플라즈마 반응기들;상기 복수의 플라즈마 반응기들이 설치되고 상기 플라즈마 제트와 상기 대상가스로 형성되는 토출 기체의 유동 공간을 형성하는 바디; 및상기 플라즈마 반응기들 반대측에서 상기 바디에 연결되어 상기 토출 기체에 접촉되어 촉매 반응으로 대상가스를 분해하는 촉매 반응기를 포함하며,상기 복수의 플라즈마 반응기들은상기 촉매 반응기의 평면을 향하는 방향(z축)에 대하여 경사각(θ)으로 경사지고,상기 촉매 반응기의 평면 중심에서 일측으로 편심 배치되는 플라즈마 촉매 스크러버
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제1항에 있어서,상기 바디는일측이 좁고 반대측으로 가면서 점진적으로 넓어지는 구조로 형성되며,상기 플라즈마 반응기들은상기 바디의 좁은 측에 설치되고,상기 촉매 반응기는상기 바디의 넓은 측에 연결되는플라즈마 촉매 스크러버
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제1항에 있어서,상기 바디는원뿔대로 형성되며,상기 복수의 플라즈마 반응기들은상기 원뿔대의 상단에서 상기 촉매 반응기의 평면에 수직으로 향하는 방향(z축)으로 설치되는 제1반응기,상기 경사각(θ)을 가지고 상기 원뿔대의 측면 일측에 설치되는 제2반응기, 및상기 제2반응기의 반대측 상기 원뿔대의 측면에 설치되는 제3반응기를 포함하는 플라즈마 촉매 스크러버
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제3항에 있어서,상기 제2반응기는상기 원뿔대의 직경 방향에 대하여 직경에 교차하는 방향의 일측에 제1편심 간격(G1)으로 이격 배치되고,상기 제3반응기는상기 원뿔대의 직경 방향에 대하여 직경에 교차하는 방향에서 상기 제1편심 간격의 반대측에 제2편심 간격(G2)으로 이격 배치되는플라즈마 촉매 스크러버
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제4항에 있어서,상기 제2반응기는상기 측면의 경사 방향에 수직하는 제1방향으로 설치되고,상기 제3반응기는 상기 측면의 경사 방향에 수직하는 제2방향으로 설치되며,상기 제1방향과 상기 제2방향은상기 촉매 반응기 상의 상기 유동 공간에서 상기 제1편심 간격(G1)과 상기 제2편심 간격(G2)을 합한 크기(G1+G2)로 이격되고,상기 바디와 상기 촉매 반응기의 경계에서 서로 직교하는플라즈마 촉매 스크러버
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제4항에 있어서,상기 제2반응기에서 토출되는 토출 가스와 상기 제3반응기에서 토출되는 토출 가스 각각의 최대범위는상기 촉매 반응기의 평면을 기준으로 볼 때,상기 제1반응기에서 토출되는 토출 가스의 최대범위에 포함되는플라즈마 촉매 스크러버
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제1항에 있어서,상기 바디는타원뿔대로 형성되며,상기 복수의 플라즈마 반응기들은상기 타원뿔대의 상단에서 상기 촉매 반응기의 평면에 수직으로 향하는 방향(z축)으로 설치되는 제1반응기,상기 경사각을 가지고 상기 타원뿔대의 장축 일 측면에 설치되는 제2반응기, 및상기 경사각을 가지고 상기 제2반응기의 반대측 상기 타원뿔대의 장축 다른 측면에 설치되는 제3반응기를 포함하는 플라즈마 촉매 스크러버
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제7항에 있어서,상기 제2반응기는상기 타원뿔대의 장축 방향에 대하여 교차하는 단축 방향의 일측에 제1편심 간격(G21)으로 이격 배치되고,상기 제3반응기는상기 타원뿔대의 장착 방향에 대하여 교차하는 단축 방향에서 상기 제1편심 간격의 반대측에 제2편심 간격(G22)으로 이격 배치되는플라즈마 촉매 스크러버
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제7항에 있어서,상기 제2반응기에서 토출되는 토출 가스와 상기 제3반응기에서 토출되는 토출 가스 각각의 최대범위는상기 촉매 반응기의 평면을 기준으로 볼 때,상기 제1반응기에서 토출되는 토출 가스의 최대범위에 포함되고,상기 제2반응기와 상기 제3반응기는상기 제1반응기의 최대범위 밖에 설치되는 플라즈마 촉매 스크러버
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제1항에 있어서,상기 바디는원뿔대로 형성되며,상기 복수의 플라즈마 반응기들은상기 원뿔대의 상단에서 상기 촉매 반응기의 평면에 수직으로 향하는 방향(z축)으로 설치되는 제1반응기,상기 경사각을 가지고 상기 원뿔대의 측면 일측에 설치되는 제2반응기,상기 경사각을 가지고 상기 제2반응기와 원주 방향으로 120도 간격을 가지고 상기 원뿔대의 다른 측면에 설치되는 제3반응기, 및상기 경사각을 가지고 상기 제3반응기와 원주 방향으로 120도 간격을 가지고 상기 원뿔대의 다른 측면에 설치되는 제4반응기를 포함하는 플라즈마 촉매 스크러버
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제10항에 있어서,상기 제2반응기, 상기 제3반응기 및 상기 제4반응기는상기 촉매 반응기의 평면과 나란하면서 상기 원뿔대의 직경 방향에 대하여 교차각(θ3)을 가지고 설치되는플라즈마 촉매 스크러버
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제11항에 있어서,상기 제2반응기에서 토출되는 토출 가스와 상기 제3반응기에서 토출되는 토출 가스 및 제4반응기에서 토출되는 토출 가스 각각의 최대범위는상기 촉매 반응기의 평면을 기준으로 볼 때,상기 제1반응기에서 토출되는 토출 가스의 최대범위에 포함되는플라즈마 촉매 스크러버
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