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가소성 고분자 반응 물질을 포함하는 제1 베이스 소스 및 알코올(alcohol)을 포함하는 제2 베이스 소스가 혼합된 베이스 용매와 소수성 세라믹 나노 입자를 준비하는 단계; 상기 베이스 용매 내에 상기 소수성 세라믹 나노 입자를 분산시켜 코팅 소스를 제조하는 단계; 가소성 고분자를 포함하는 기판에 상기 코팅 소스를 제공하여, 상기 기판이 포함하는 상기 가소성 고분자와 상기 베이스 용매가 포함하는 상기 제1 베이스 소스를 반응시켜, 상기 기판 상에 상기 소수성 세라믹 나노 입자를 코팅하는 단계; 및상기 소수성 세라믹 나노 입자가 코팅된 상기 기판을 건조시키는 단계를 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제1 항에 있어서, 상기 소수성 세라믹 나노 입자 코팅 단계에서, 상기 제1 베이스 소스와 상기 가소성 고분자가 반응된 상기 기판은 점탄성(viscoelasticity) 및 점착성을 갖는 것을 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제1 항에 있어서, 상기 소수성 세라믹 나노 입자 코팅 단계에서, 상기 제1 베이스 소스와 반응된 상기 가소성 고분자의 체인(chain) 사이의 거리는, 상기 제1 베이스 소스와 반응되기 전 상기 가소성 고분자의 체인 사이의 거리보다 먼 것을 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제1 항에 있어서, 상기 베이스 용매 내에서 상기 제1 베이스 소스의 함량은 50 vol% 초과 70 vol% 미만인 것을 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제1 항에 있어서, 상기 소수성 세라믹 나노 입자를 준비하는 단계는,세라믹 나노 입자를 준비하는 단계; 및상기 세라믹 나노 입자, 용매, 및 자가조립단분자막(Self-aligned monolayer) 형성물질을 혼합하여 상기 세라믹 나노 입자의 표면을 소수성으로 변화시키는 단계를 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제5 항에 있어서, 상기 자가조립단분자막 형성물질은, silane 계열 물질, fatty acid 계열 물질, 및 thiol 계열 물질 중 어느 하나를 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제5 항에 있어서, 상기 세라믹 나노 입자는, SiO2, TiO2, ZnO, CaCO3, Al2O3, 및 ZrO3 중 어느 하나를 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제1 항에 있어서, 상기 가소성 고분자 반응 물질은, 아세톤(acetone), 에터(ether), 및 다이클로로 에틸렌(dichloro ethylene) 중 어느 하나를 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제1 항에 있어서, 상기 코팅 소스 내에서 상기 소수성 세라믹 나노 입자는, 95 g/L 이상의 농도를 갖는 것을 포함하는 초발수 표면 구현 방법
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제1 항에 있어서, 상기 가소성 고분자는, ABS(acrylonitrile butadiene styrene copolymer), 폴리메틸메타크릴레이트(Poly(methyl methacrylate), PMMA), 나일론, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리스티렌, 및 폴리프로필렌 중 어느 하나를 포함하는 초발수 표면 구현방법
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가소성 고분자를 포함하는 기판; 및상기 기판 상에 배치된 초발수 입자들을 포함하되, 상기 초발수 입자들은, 친수성의 세라믹 나노 입자가 자가조립단분자막 형성물질에 의하여 소수성으로 변화된 것을 포함하는 초발수 구조체
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제11 항에 있어서, 상기 초발수 입자가 배치된 상기 기판 상에 물방울을 떨어뜨리는 경우, 물방울과 상기 초발수 입자가 배치된 상기 기판 사이의 접촉각(contact angle)은 150°이상인 것을 포함하는 초발수 구조체
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