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웨이퍼의 상부에 마련되어 상기 웨이퍼의 상면을 세정하도록 마련된 상부브러쉬부;상기 웨이퍼의 하부에 마련되어 상기 웨이퍼의 하면을 세정하도록 마련된 하부브러쉬부;상기 웨이퍼의 진동값을 측정하도록 마련된 센서부; 및상기 센서부에 의해 측정된 상기 진동값을 이용하여 상기 웨이퍼와 상기 상부브러쉬부 및 상기 하부브러쉬부의 접촉 여부를 판단하도록 마련된 산출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 산출부는,상기 센서부에 의해 측정된 진동값을 이용하여 진동 주파수에 따른 진폭을 검출하도록 마련된 진폭모듈; 및상기 상부브러쉬부와 상기 하부브러쉬부가 상기 웨이퍼와 접촉할 때 발생되는 기설정된 값인 브러쉬 접촉 주파수의 진폭에 피크가 발생될 때, 상기 상부브러쉬부 및 상기 하부브러쉬부의 위치를 접촉 원점으로 산출하도록 마련된 산출모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치
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제 2 항에 있어서,상기 브러쉬 접촉 주파수는,(여기서, fc는 브러쉬 접촉 주파수, B는 브러쉬 회전수(rpm), N은 브러쉬 반경방향의 돌기 수)상기 수학식에 의해 산출된 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 상부브러쉬부는,롤러 형태로 마련된 상부브러쉬;상기 상부브러쉬의 외주면에 형성되는 상부돌기; 및상기 상부브러쉬를 지지하며 회전시키도록 마련된 상부브러쉬홀더를 포함하며,상기 상부돌기는 등간격으로 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 하부브러쉬부는,롤러 형태로 마련된 하부브러쉬;상기 하부브러쉬의 외주면에 형성되는 하부돌기; 및상기 하부브러쉬를 지지하며 회전시키도록 마련된 하부브러쉬홀더를 포함하며,상기 하부돌기는 등간격으로 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치
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제 1 항에 있어서,상기 웨이퍼의 양측에 마련되며, 상기 웨이퍼를 회전시키도록 마련된 홀더부; 및상기 홀더부의 하부에 마련되어 상기 홀더부를 지지 및 회전시키도록 마련된 홀더지지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치
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제 6 항에 있어서,상기 홀더지지부는,상기 홀더부의 하부를 향해 연장 형성되며, 상기 홀더부를 회전시키도록 마련된 회전로드;내부에 상기 회전로드가 수용되도록 마련된 홀더커버;상기 회전로드와 상기 홀더커버 사이에 마련되는 진동전달체; 및상기 회전로드를 회전시키도록 상기 회전로드에 동력을 제공하는 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치
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제 7 항에 있어서,상기 센서부는 상기 진동전달체에 마련되며,상기 진동전달체는 상기 웨이퍼, 상기 홀더부, 상기 회전로드를 통해 전달되는 진동을 상기 센서부에 전달하도록 마련된 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치
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제 1 항에 따른 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치를 이용한 접촉 원점 검출 방법에 있어서,a) 상기 상부브러쉬부와 상기 하부브러쉬부를 상기 웨이퍼에 근접시키는 단계;b) 상기 상부브러쉬부와 상기 하부브러쉬부가 상기 웨이퍼에 근접되는 동안 상기 센서부가 상기 웨이퍼로부터 전달되는 진동값을 측정하는 단계;c) 측정된 상기 진동값을 상기 산출부에 제공하는 단계; 및d) 제공된 상기 진동값을 이용하여 접촉 원점을 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치를 이용한 접촉 원점 검출 방법
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제 9 항에 있어서,상기 d) 단계는,d1) 제공된 상기 진동값으로부터 진동 주파수에 따른 진폭을 산출하는 단계; 및d2) 상기 상부브러쉬부와 상기 하부브러쉬부가 상기 웨이퍼와 접촉할 때 발생되는 기설정된 값인 브러쉬 접촉 주파수의 진폭에 피크가 발생될 때, 상기 상부브러쉬부 및 상기 하부브러쉬부의 위치를 접촉 원점으로 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치를 이용한 접촉 원점 검출 방법
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제 10 항에 있어서,상기 브러쉬 접촉 주파수는,(여기서, fc는 브러쉬 접촉 주파수, B는 브러쉬 회전수(rpm), N은 브러쉬 반경방향의 돌기 수)상기 수학식에 의해 산출된 것을 특징으로 하는 웨이퍼에 대한 세정용 브러쉬의 접촉 원점 검출 장치를 이용한 접촉 원점 검출 방법
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