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하기 화학식 1로 표시되는 아조벤젠 단량체:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1은 직쇄 또는 분지쇄의 C1-20알킬이고;R2는 수소, 또는 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-20알킬이고, 상기 n은 1 내지 4의 정수이고;R3는 질소를 하나 이상 포함하는 5 내지 10 원자의 헤테로아릴이고;L은 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-20알킬렌이고; 및Q는 분자 내에 라디칼 중합성의 이중결합을 하나 이상 포함하는 광가교성 관능기이다
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제1항에 있어서,R1은 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬이고;R2는 수소, 또는 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬이고, 상기 n은 1 내지 3의 정수이고;R3는 질소를 하나 이상 포함하는 6 원자의 헤테로아릴이고;L은 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬렌이고; 및Q는 분자 내에 라디칼 중합성의 이중결합을 하나 이상 포함하는 광가교성 관능기인 것을 특징으로 하는 아조벤젠 단량체
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제1항에 있어서,R1은 직쇄 또는 분지쇄의 C1-5알킬이고;R2는 수소, 또는 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-5알킬이고, 상기 n은 1 내지 2의 정수이고;R3는 피리딘, 또는 피리미딘이고;L은 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-6알킬렌이고; 및Q는 , , , , , , , , , 또는 인 것을 특징으로 하는 아조벤젠 단량체
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제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 아조벤젠 단량체는, 하기 화합물 군으로부터 선택되는 어느 하나의 화합물인 것을 특징으로 하는 아조벤젠 단량체:, , , , , 및
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제1항의 화학식 1로 표시되는 아조벤젠 단량체; 및바이닐 아크릴기를 가지는 단량체;의 중합에 의해 형성되는 고분자
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제5항에 있어서,상기 고분자는 상기 화학식 1로 표시되는 아조벤젠 단량체 내 Q의 이중결합과, 상기 바이닐 아크릴기를 가지는 단량체 내 바이닐기가 중합 반응되어 형성되는 것을 특징으로 하는 고분자
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제5항의 고분자를 포함하는 광 굴절율 변조 중합체 조성물
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제5항의 고분자를 포함하는 홀로그램 기록용 조성물
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제8항에 있어서,상기 홀로그램 기록용 조성물은 400 내지 600 nm의 파장을 흡수하는 것을 특징으로 하는 홀로그램 기록용 조성물
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제8항의 홀로그램 기록용 조성물로 이루어진 기록층이 기판 위에 형성된 홀로그램 기록 매체
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제5항의 고분자로 박막을 제조하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1에서 제조한 박막에 레이저 회절무늬를 조사하는 단계(단계 2);를 포함하는 홀로그램 기록 방법
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제10항의 홀로그램 기록 매체에 홀로그램을 기록할 때 사용된 기준광만을, 상기 홀로그램 기록 매체에 조사하는 단계를 포함하는 홀로그램 재기록 방법
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