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하나의 레이어를 형성하도록 구비되는 베이스배양막; 및상기 베이스배양막과 다른 높이로 하나 이상의 레이어를 형성하도록 구비되어 사이에 세포가 배양되는 세포배양공간을 형성하며, 포어가 복수 개 형성된 n개의 상부배양막(n은 1이상의 자연수);을 포함하는 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제1항에 있어서,상기 상부배양막은 적어도 일부가 상기 베이스배양막 또는 인접한 다른 상부배양막에 대해 상부로 이격되어 상기 세포배양공간을 형성하는 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제1항에 있어서,상기 상부배양막 중 상기 베이스배양막과 인접한 제1상부배양막은,양측이 개구되고, 기 설정된 경로를 가지는 마이크로 채널을 상기 베이스배양막과의 사이에 형성하는 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제1항에 있어서,상기 상부배양막은 하부에서 상부의 레이어로 갈수록 상기 포어의 크기가 점차 커지도록 형성된 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제1항에 있어서,상기 상부배양막은 하부에서 상부의 레이어로 갈수록 상기 포어의 크기가 점차 작아지도록 형성된 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제1항에 있어서,상기 베이스배양막에는 포어가 형성된 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제1항에 있어서,내측에 상하 개구된 배양홀을 형성하는 측벽부와, 상기 측벽부의 하부에 구비되며, 상기 베이스배양막의 둘레가 부착되는 저면부를 포함하여, 상기 배양홀 내에 상기 상부배양막이 구비되는 웰 유닛을 더 포함하는 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제7항에 있어서,상기 웰 유닛의 저면부 하단에는 상기 베이스배양막을 융착시키기 위한 융착돌기가 형성된 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제8항에 있어서,상기 융착돌기의 폭은 상기 측벽부의 폭의 1/10로 형성되는 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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제8항에 있어서,상기 융착돌기의 높이는 상기 측벽부의 폭의 2배로 형성되는 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰
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베이스배양막 및 n개의 상부배양막을 준비하는 (a)단계;압착돌기가 형성된 제1몰드와, 상기 압착돌기와 대향되는 삽입홈을 포함하는 제2몰드 사이에, 상기 상부배양막 중 상기 베이스배양막과 인접하여 구비될 제1상부배양막을 위치시키는 (b)단계;상기 제1몰드 및 상기 제2몰드를 통해 상기 제1상부배양막을 열융착하여 기 설정된 경로를 가지도록 함몰된 마이크로 채널을 형성하는 (c)단계;상기 상부배양막에 포어를 형성하는 (d)단계; 및상기 베이스배양막과 상기 상부배양막을 적층하여 복수의 레이어를 형성하는 (e)단계;를 포함하는 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰 제조방법
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제11항에 있어서,상기 (e)단계는,내측에 상하 개구된 배양홀을 형성하는 측벽부와, 상기 측벽부의 하부에 구비되는 저면부를 포함하는 웰 유닛의 상기 저면부 하단에 상기 베이스배양막을 융착시키는 (e-1)단계; 및상기 베이스배양막 상에 상기 상부배양막을 적층하여 상기 배양홀 내에 복수의 레이어를 형성하는 (e-2)단계;를 포함하는 다층 3차원 기저막 구조의 인서트 웰 제조방법
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