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표면 돌기가 형성된 구형 무기 입자 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2021007537
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 무기 입자는 구형의 1차 입자의 표면에 구형의 돌기가 복수 개 형성되어 있는 형상을 가지며, 이로 인해 나노 사이즈 임에도 불구하고 큰 비표면적을 가질 수 있으며, pH 조절에 따른 표면전하 제어가 용이하다. 그 결과 실리콘막과의 접촉면적이 증대되고 연마속도도 향상될 뿐 아니라 스크래치 손상이 낮아 CMP 연마 슬러리에 포함되는 연마입자로서 사용시 연마 효율이 우수하다.
Int. CL C09K 3/14 (2006.01.01)
CPC C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1463(2013.01)
출원번호/일자 1020200023993 (2020.02.27)
출원인 비드오리진(주), 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-2261151-0000 (2021.05.31)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20210607) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.02.27)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 비드오리진(주) 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 남재도 서울특별시 강남구
2 김나연 서울특별시 강동구
3 박인경 서울특별시 영등포구
4 황의석 서울특별시 서초구
5 김동학 부산광역시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김애라 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** (역삼동, 한신인터밸리**) 서관 ***호(테라아이피씨특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 비드오리진(주) 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2020-0206088-55
2 [우선심사신청]심사청구서·우선심사신청서
2020.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2020-1130065-24
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2020.10.27 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2020.11.02 수리 (Accepted) 9-1-2020-0030126-28
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.02.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0112361-70
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2021.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2021-5070306-34
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.03.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-0255837-18
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.03.04 수리 (Accepted) 1-1-2021-0255836-73
9 등록결정서
Decision to grant
2021.04.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0283112-84
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
속이 찬 1차 입자의 표면 상에 상기 1차 입자의 직경보다 작은 직경을 갖는 복수개의 2차 입자가 돌기를 형성하고 있는 무기 입자로서, 상기 무기 입자는 pH4 의 수분산액 상태에서 표면 전하가 +30 ~ +50 mV 또는 -30 ~ -50 mV의 제타전위를 갖는 것인 무기 입자
2 2
제1항에 있어서, 상기 속이 찬 1차 입자는 자기조립성 계면활성제가 형성하는 껍질 속에서 성장된 것인 무기 입자
3 3
제1항 있어서, 상기 무기 입자의 밀도는 3
4 4
제1항에 있어서, 상기 2차 입자의 직경은 상기 1차 입자 직경의 2~25%인 것인 무기 입자
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 상기 1차 입자 및 2차 입자는 각각 독립적으로 Ga, Sn, As, Sb, Ce, Si, Al, Co, Fe, Li, Mn, Ba, Ti, Sr, V, Zn, La, Hf, Ni 및 Zr으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 산화물로 이루어진 것인 무기 입자
7 7
(a) 자기조립성 계면활성제를 용매에 용해시키는 단계;(b) 상기 (a) 단계를 실시하기 전, 후 또는 동시에, 무기물 전구체를 상기 용매에 용해 또는 분산시켜 무기물 전구체 용액을 제조하는 단계; 및(c)상기 무기물 전구체와 상기 계면활성제의 자기조립반응을 통해 계면활성제가 형성하는 껍질 속에서 속이 찬 1차 입자를 형성하고, 1차 입자 표면 상에 상기 1차 입자의 직경보다 작은 직경을 갖는 복수개의 2차 입자가 돌기를 형성하도록 하는 단계를 포함하는 제1항 내지 제4항 및 제6항 중 어느 한 항의 무기 입자 제조 방법:
8 8
제7항에 있어서, 상기 (c) 단계에서 얻은 무기 입자를 산과 염기로 처리하여 표면 전하가 제어된 무기입자를 얻는 단계를 더 포함하는 무기 입자 제조 방법
9 9
제7항에 있어서, 상기 자기조립성 계면활성제는 상기 무기물 전구체와 결합할 수 있는 전하를 갖는 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제로부터 선택되는 하나 이상으로서, 축합반응 내지는 가교반응이 가능한 관능기를 보유하는 것인 무기 입자 제조 방법
10 10
제9항에 있어서, 상기 축합반응 내지는 가교반응이 가능한 관능기는 아마이드기, 니트로기, 알데히드기 및 카르보닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 것인 무기 입자 제조 방법
11 11
제7항에 있어서, 상기 자기조립성 계면활성제가 하기 화학식 1의 화합물인 것인 무기 입자 제조 방법:[화학식 1] 상기 화학식 1에서 R1, R3, R4는 독립적으로 수소원자, C1-C10 알킬기 또는 알콕시기이며, R2는 C1-C10 알킬렌기 또는 단일 공유결합이고, n은 2 이상의 정수이다
12 12
제7항에 있어서, 상기 용매는 물 또는 물과 상용성을 갖는 용매와 물의 혼합 용매인 것인 무기 입자 제조 방법
13 13
제12항에 있어서,상기 물과 상용성을 갖는 용매는 알코올, 클로로포름, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 글리세롤 및 부틸글리콜 중에서 선택되는 하나 이상인 것인 무기 입자 제조 방법
14 14
제1항 내지 제4항 및 제6항 중 어느 한 항의 무기입자가 물에 분산되어 있는 수분산액
15 15
제14항에 있어서, 상기 수분산액은 CMP용 슬러리인 것인 수분산액
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 중소벤처기업부 비드오리진(주) 창업성장기술개발사업 표면활성도가 제어된 무결점 반도체폴리싱공정용 연마입자 양산기술 개발
2 산업통상자원부 성균관대학교산학협력단 전자정보디바이스산업원천기술개발사업 고연마율/선택비 용 세리아 슬러리 첨가제 기술 개발