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건물의 내부 공간에 설치되고, 엘이디 발광 장치 및 상기 엘이디 발광 장치가 발광 상태에 있을 때 발생하는 열을 배출시키는 방열 장치를 각각 포함하는 복수의 엘이디 조명 기구들;상기 엘이디 조명 기구들의 상기 방열 장치들이 내부 통로에 설치된 흡열 배관을 통해 냉매를 순환시켜 상기 냉매를 증발시키는 증발 설비;상기 증발 설비에서 배출되는 상기 냉매를 압축시키는 압축 설비;상기 압축 설비에서 배출되는 상기 냉매를 응축시켜 축열하는 축열 설비;상기 축열 설비에서 배출되는 상기 냉매를 팽창시켜 상기 증발 설비로 배출하는 팽창 설비;상기 증발 설비와 상기 압축 설비를 연결하는 연결 배관에 설치되고, 상기 증발 설비에서 배출되는 상기 냉매의 온도를 센싱하는 온도 센서; 및상기 온도 및 상기 온도의 실시간 증가율에 따라 상기 압축 설비의 압축 동작 속도를 조절하는 메인 컨트롤러를 포함하는 엘이디 조명 시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 축열 설비는 상기 건물의 난방 설비 또는 상기 건물의 온수 설비인 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 방열 장치는 상기 엘이디 발광 장치에 물리적으로 연결되는 열 파이프 및 상기 열 파이프에 물리적으로 연결되는 열 싱크를 포함하는 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 메인 컨트롤러는 상기 온도가 높아지면 상기 압축 설비의 상기 압축 동작 속도를 증가시키고, 상기 온도가 낮아지면 상기 압축 설비의 상기 압축 동작 속도를 감소시키는 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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제 4 항에 있어서, 상기 메인 컨트롤러는 상기 온도에 대응되는 상기 압축 설비의 상기 압축 동작 속도가 저장되어 있는 맵핑 테이블을 이용하여 상기 압축 설비의 상기 압축 동작 속도를 결정하는 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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제 5 항에 있어서, 상기 메인 컨트롤러는 상기 실시간 증가율이 양의 값을 가지면 상기 압축 설비의 상기 압축 동작 속도를 기 설정된 증가분만큼 증가시키는 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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제 6 항에 있어서, 상기 메인 컨트롤러는 상기 실시간 증가율의 절대값이 클수록 상기 증가분을 크게 설정하는 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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제 6 항에 있어서, 상기 메인 컨트롤러는 상기 실시간 증가율의 절대값이 기준값 이상이면 상기 엘이디 조명 기구들의 휘도들 각각을 기준 휘도로 제한하는 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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제 5 항에 있어서, 상기 메인 컨트롤러는 상기 실시간 증가율이 음의 값을 가지면 상기 압축 설비의 상기 압축 동작 속도를 기 설정된 감소분만큼 감소시키는 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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제 8 항에 있어서, 상기 메인 컨트롤러는 상기 실시간 증가율의 절대값이 클수록 상기 감소분을 크게 설정하는 것을 특징으로 하는 엘이디 조명 시스템
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