1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 아이소소바이드 유도체를 포함하는 치과용 고분자 수복재 조성물;[화학식 1]상기 식에서,n은 1 내지 5이다
|
2 |
2
제1항에 있어서, 상기 아이소소바이드 유도체는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물
|
3 |
3
제1항에 있어서, 상기 조성물은 희석제, 광개시제, 무기충전제 및 이들의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 구성요소를 추가로 포함하는 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물
|
4 |
4
제3항에 있어서,상기 희석제는 메틸 메타크릴레이트(methyl methacrylate, MMA), 에틸렌 글리콜 다이메타크릴레이트(ethylene glycol dimethacrylate, EGDMA), 다이에틸렌 글리콜 다이메타크릴레이트(diethylene glycol dimethacrylate, DEGDMA), 트리에틸렌 글리콜 다이메타크릴레이트(triethylene glycol dimethacrylate, TEGDMA), 1,4-부탄다이올 다이메타크릴레이트(1,4-butanediol dimethacrylate), 1,6-헥산 다이올 다이메타크릴레이트(1,6-hexanedioldimethacrylate), 1-메틸-1,3-프로판다이올 다이메타크릴레이트(1-methyl-1,3-propanediol dimethacrylate),1,6-비스(메타크릴로일옥시-2-에톡시카보닐아미노)-2,2,4-트리메틸헥산(1,6-bis(methacryloyloxy-2-ethoxycarbonylamino)-2,2,4-trimethylhexane) 및 이들의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물
|
5 |
5
제3항에 있어서,상기 희석제의 함량은 총 중량 기준 50 내지 80 중량%인 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물
|
6 |
6
제3항에 있어서,상기 광개시제는 캄포퀴논(camphorquinone, CQ)인 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물
|
7 |
7
제3항에 있어서,상기 광개시제의 함량은 상기 조성물의 총 중량 기준 0
|
8 |
8
제3항에 있어서,상기 무기충전제는 실리카, 석영, 바륨 글래스, 지르코니아, 알루미노 실리케이트, 리튬 알루미노 실리케이트, 바륨 알루미노 실리케이트 및 이들의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물
|
9 |
9
제8항에 있어서,상기 무기충전제는 실란(silane)커플링제로 표면처리된 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물
|
10 |
10
제3항에 있어서,상기 무기충전제의 함량은 상기 조성물의 총 중량 기준 1 내지 90 중량%인 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물
|
11 |
11
(a) 화학식 1의 아이소소바이드 유도체에, 에틸렌 카보네이트 또는 트라이메틸렌 카보네이트를 가하여 용융시킨 후, K2CO3 를 첨가하고 반응시켜서, 중간화합물을 합성하는 단계; (b) 상기 (a)단계에서 합성된 중간화합물과 2-아이소사이아나토 메타크릴레이트(2-Isocyanatoethyl metacrylate, IEM)를 촉매하에서 반응시켜서, 우레탄기를 포함하는 중합단량체를 합성하는 단계; 및(c) 상기 (b)단계에서 합성된 중합단량체에 광개시제 및 무기충전제를 가하여 반응시키는 단계를 포함하는, 치과용 고분자 수복재 조성물의 제조방법
|
12 |
12
제11항에 있어서, 상기 (a) 단계의 용융은 60 내지 80℃에서 수행되는 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물의 제조방법
|
13 |
13
제11항에 있어서, 상기 (a) 단계의 반응은 160 내지 180℃에서 수행되는 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물의 제조방법
|
14 |
14
제11항에 있어서, 상기 (b) 단계의 중간화합물과 IEM의 혼합비는 1:2 내지 1:3(w/w)인 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물의 제조방법
|
15 |
15
제11항에 있어서, 상기 (b) 단계의 촉매는 1,4-다이아자바이시클로[2,2,2]옥탄(1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane,DABCO), 비스(2-디메틸아미노에틸)에터(bis(2-dimethylaminoethyl)ether), 트라이메틸아미노데틸에타놀아민(trimethylaminoethylethanolamine), N,N,N',N',N"-펜타메틸다이에틸엔트라이아민(N,N,N',N',N"-pentamethyldiethylenetriamine), N,N'-다이메틸에타놀아민(N,N'-dimethylethanolamine), 다이메틸아미노프로필아민(dimethylaminopropylamine), N-에틸모르폴린(N-ethylmorpholine), N,N-다이데틸아미노에틸모르폴린(N,N-dimethylaminoethylmorpholine), N,N-다이메틸사이클로헥실아민(N,N-dimethylcyclohexylamine), 2-메틸-2-아자노르보르난(2-methyl-2-azanorbornane), 주석(II) 2-에틸헥사노에이트 (Tin(II) 2-ethylhexanoate, ), 다이뷰틸틴 디아세테이트(dibutyltin diacetate), 다이뷰틸틴 디머캅타이드(dibutyltin dimercaptide) 및 디부틸주석 디라우레이트(Dibutyltin dilaurate, DBTDL)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 치과용 고분자 수복재 조성물의 제조방법
|