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저탄소강으로 형성되는 대상금속에 전처리를 수행하는 (a)단계;상기 대상금속을 반응챔버에 투입하는 (b)단계; 및상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 상기 반응챔버 내에 반응가스를 투입하여 침탄 처리를 수행하는 (c)단계;를 포함하며,상기 (c)단계는,상기 반응가스 일정 유량을 펄스 타입으로 공급하도록 조절함에 따라, 상기 대상금속의 표면으로부터 일정 깊이까지 탄소를 확산시킨 이후, 표면에 표면 이상층을 추가적으로 형성하도록 하는 처리가스 유량조절을 통한 표면 이상층 형성이 가능한 진공침탄방법
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제1항에 있어서,상기 (c)단계에서 사용되는 상기 반응가스는 아세틸렌 가스인 것으로 하는 처리가스 유량조절을 통한 표면 이상층 형성이 가능한 진공침탄방법
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제2항에 있어서,상기 (c)단계에서,상기 반응가스의 유량은 30sccm 이상 50sccm 이하인 것으로 하는 처리가스 유량조절을 통한 표면 이상층 형성이 가능한 진공침탄방법
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제1항에 있어서,상기 (c)단계는,상기 반응챔버 내의 압력을 점차 증가시키되, 상기 반응챔버 내의 압력이 목표압력에 도달하였을 경우 상기 목표압력을 유지하는 것으로 하는 처리가스 유량조절을 통한 표면 이상층 형성이 가능한 진공침탄방법
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제4항에 있어서,상기 (c)단계에서,상기 목표압력은 5torr 이하인 것으로 하는 처리가스 유량조절을 통한 표면 이상층 형성이 가능한 진공침탄방법
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