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입사된 광을 홀로그램 패턴에 따라 변조하여 출력하는 공간 광 변조기(SLM); 및상기 공간 광 변조기에서 출력된 광을 변조하여 출력하는 투과형 위상 마스크를 포함하고,상기 투과형 위상 마스크는,공간 광 변조기 보다 픽셀 피치가 작은 홀로그래픽 디스플레이 장치
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제1항에 있어서,상기 투과형 위상 마스크는,픽셀들이 랜덤 패턴으로 배치되어 랜덤한 위상을 출력하도록 형성되는 홀로그래픽 디스플레이 장치
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제2항에 있어서,상기 홀로그램 패턴은 상기 공간 광 변조기의 픽셀들에서 출력되어 상기 투과형 위상 마스크에 입력되는 입력 필드의 값과 상기 투과형 위상 마스크에서 출력된 광에 의하여 형성되는 출력 필드의 값 사이의 전송 매트릭스에 따라 계산되는 홀로그래픽 디스플레이 장치
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제3항에 있어서,상기 출력 필드의 값은 상기 공간 광 변조기의 픽셀들 중 하나에 매칭된 투과형 위상 마스크의 복수의 픽셀들 각각의 정보들에 기초하여 선택된 대표값인 홀로그래픽 디스플레이 장치
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제2항에 있어서,상기 홀로그램 패턴은 상기 공간 광 변조기의 픽셀들 각각에 대응하는 하다마드(Hadamard) 벡터를 변환한 2D 매트릭스와 참조 빔에 해당하는 유니폼(uniform) 매트릭스를 이용하여 계산되는 홀로그래픽 디스플레이 장치
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제1항에 있어서,상기 투과형 위상 마스크는,상기 공간 광 변조기에서 광을 출력하는 방향에 부착되는 홀로그래픽 디스플레이 장치
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공간 광 변조기 및 공간 광 변조기의 출력을 변조하는 투과형 위상 마스크가 포함된 홀로그래픽 디스플레이 장치에서 공간 광 변조기의 홀로그램 패턴을 최적화하는 홀로그램 패턴 최적화 방법에 있어서, 3차원 이미지로 재현하고자 하는 물체의 3차원 영상 정보를 투과형 위상 마스크까지 전파(propagation) 시키는 단계;상기 투과형 위상 마스크에 전파되었던 3차원 영상 정보를 공간 광 변조기까지 전파 시키는 단계;상기 공간 광 변조기의 한 픽셀에 대응하는 투과형 위상 마스크의 복수의 픽셀들의 대표값을 결정하는 단계상기 공간 광 변조기(110)의 홀로그램 패턴을 3차원 영상 정보 면까지 전파 시키는 단계; 및3차원 영상 정보면으로 전파된 홀로그램 패턴이 3차원 이미지를 재현하는 경우, 홀로그램 패턴이 최적화 된 것으로 판단하는 단계를 포함하는 홀로그램 패턴 최적화 방법
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제7항에 있어서,상기 투과형 위상 마스크는,공간 광 변조기 보다 픽셀 피치가 작은 홀로그램 패턴 최적화 방법
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제8항에 있어서,3차원 영상 정보면으로 전파된 홀로그램 패턴이 3차원 이미지를 재현하지 못하는 경우, 물체의 3차원 정보를 업데이트하는 단계를 더 포함하고,상기 투과형 위상 마스크까지 전파 시키는 단계는,업데이트된 3차원 정보를 상기 투과형 위상 마스크까지 전파시키는 홀로그램 패턴 최적화 방법
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제7항 내지 제9항 중 어느 한 항의 방법을 실행하기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터에서 판독 가능한 기록 매체
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