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적외선 대역에 사용되는 무반사 렌즈로서,굴절률이 3
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2 |
2
청구항 1에 있어서,상기 제 1 층 및 제 3 층은 굴절률이 1
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3 |
3
청구항 2에 있어서,상기 렌즈 기재부의 굴절률은 4
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4 |
4
청구항 2에 있어서,상기 렌즈 기재부는 게르마늄(Ge) 또는 규소(Si)로 형성되고,상기 제 1 층 및 제 3 층은 BaF2, CaF2, Al2O3, LiF, MgF2, MgO 및 Y3Al5O12 중 어느 하나 또는 그 이상으로 형성되며,상기 제 2 층은 금나노입자로 이루어진 메타물질로 형성되며,상기 제 4 층은 ZnS, ZnSe, LiNbO3, TiO2, YVO4 및 ZrO2:Y(Yttria-stabilized Zirconium Oxide) 중 어느 하나 또는 그 이상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 적외선용 무반사 렌즈
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5
청구항 4에 있어서,상기 제 2 층을 형성하는 메타물질은, 한 변의 길이가 50 ~ 100㎚인 큐브형태로 합성된 금나노입자가 평평하게 조립되어 형성된 것을 특징으로 하는 적외선용 무반사 렌즈
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6 |
6
청구항 2에 있어서,상기 렌즈 기재부의 두께는 3
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7 |
7
청구항 6에 있어서,상기 제 1 층의 두께는 0
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8 |
8
청구항 1에 있어서,상기 제 4 층은 전방으로 갈수록 단면적이 작아지도록 전방면이 중앙지점을 향하여 경사진 경사면을 형성하는 것을 특징으로 하는 적외선용 무반사 렌즈
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9 |
9
청구항 1에 있어서,상기 무반사 코팅부의 제 1 층 내지 제 4 층은 각각 솔젤(sol-gel) 공법, 랑뮤어-블로짓(Langmuir-Blodgett) 공법, 대류 자기 조립(Convective assembly) 및 나노임프린트(Nanoimprint) 공법 중 어느 하나 또는 둘 이상의 용액 공정으로 형성되는 것을 특징으로 하는 적외선용 무반사 렌즈
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10 |
10
청구항 9에 있어서,상기 무반사 코팅부의 제 1 층 및 제 3 층은 솔젤(sol-gel) 공법으로 형성되고,상기 무반사 코팅부의 제 2 층은 랑뮤어-블로짓(Langmuir-Blodgett) 공법 및 대류 자기 조립(Convective assembly)으로 형성되며,상기 무만사 코팅부의 제 4 층은 나노임프린트(Nanoimprint) 공법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 적외선용 무반사 렌즈
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