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음향 메타구조 및 에너지 하베스터 성능 측정 장치에 있어서,일측 단부에 스피커가 결합되며, 상기 스피커에서 발생된 음파로부터 생성된 평면파의 특성을 파악하기 위한 음압 신호를 측정하는 2열의 제 1 마이크로폰이 구비되는 제 1 덕트모듈;일측 단부가 상기 제 1 덕트모듈의 타측 단부와 연결되며, 상기 제 1 덕트모듈을 통과한 입사파를 소정의 지점으로 집속시키기 위한 음향 메타구조 및 상기 소정의 지점에 집속된 입사파의 음압 신호를 측정하는 제 2 마이크로폰이 구비되는 제 2 덕트모듈; 및일측 단부가 상기 제 2 덕트모듈의 타측 단부와 연결되며, 타측 단부에 배치되는 웨지형 흡음부재 및 반사파의 영향을 확인하기 위한 음압 신호를 측정하는 2열의 제 3 마이크로폰이 구비되는 제 3 덕트모듈을 포함하는 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 덕트모듈은, 상기 제 1 덕트모듈 및 제 3 덕트모듈과 결합 또는 상기 제 1 덕트모듈 및 제 3 덕트모듈로부터 분리가 가능한 것을 특징으로 하는 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 마이크로폰은, 상기 제 2 덕트모듈의 일측 단부로부터 소정의 간격만큼 이격되어 배치되며,상기 제 3 마이크로폰은, 상기 제 2 덕트모듈의 타측 단부에 인접하게 배치되는 것을 특징으로 하는 장치
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제 1 항에 있어서,상기 음향 메타구조는, 복수개의 구조물을 포함하는 원형의 다층구조로서, 상기 원형의 반경방향을 따라 상기 입사파의 굴절률을 변화시켜 상기 입사파를 상기 음향 메타구조의 중심으로 유도하는 것을 특징으로 하는 장치
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제 4 항에 있어서,상기 음향 메타구조의 각 층별 구조물의 크기는 동일하며,상기 원형의 반경방향을 기준으로 상기 중심에서 멀어질수록 상기 구조물의 크기가 감소함으로써, 상기 굴절률을 감소시키는 것을 특징으로 하는 장치
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제 5 항에 있어서,상기 구조물은, 육각형의 단위격자의 중심과 꼭지점에 배치되는 원기둥인 것을 특징으로 하는 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 덕트모듈에는, 에너지 하베스터가 수직 또는 수평 방향으로 장착되는 고정유닛 및 상기 제 2 덕트모듈에 입사한 평면파의 누출을 방지하기 위한 패킹부재를 포함하는 소켓이 구비되는 것을 특징으로 하는 장치
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8
제 7 항에 있어서,상기 제 1 마이크로폰, 제 2 마이크로폰 및 제 3 마이크로폰 각각에 의해 개별적으로 측정된 음압 신호들에 대한 주파수 스펙트럼 분석을 통해 상기 입사파의 상기 소정의 지점으로의 집속율을 추정하는 프로세서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치
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제 8 항에 있어서,상기 프로세서는, 상기 주파수 스펙트럼 분석을 통해 도출된 상기 제 1 마이크로폰에 의해 측정된 음압 신호와 상기 제 2 마이크로폰에 의해 측정된 음압 신호의 비를 기초로 상기 집속율을 추정하는 것을 특징으로 하는 장치
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제 9 항에 있어서,상기 프로세서는, 상기 제 3 마이크로폰에 의해 측정된 음압 신호에 대한 주파수 스펙트럼 분석을 통해 제 3 덕트모듈의 흠읍율 및 반사율을 추정하고, 상기 입사파에 대한 반사파의 영향을 보정하는 것을 특징으로 하는 장치
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음향 메타구조 및 에너지 하베스터 성능 측정 방법에 있어서,제 1 덕트모듈에 구비된 2열의 제 1 마이크로폰을 통해 스피커에서 발생된 음파로부터 생성된 평면파의 특성을 파악하기 위한 음압 신호를 측정하는 단계;제 2 덕트모듈에 구비된 제 2 마이크로폰을 통해 음향 메타구조에 의해 소정의 지점으로 집속된 입사파의 음압 신호를 측정하는 단계;제 3 덕트모듈에 구비된 2열의 제 3 마이크로폰을 통해 반사파의 영향을 확인하기 위한 음압 신호를 측정하는 단계; 및프로세서가 상기 제 1 마이크로폰, 제 2 마이크로폰 및 제 3 마이크로폰 각각에 의해 개별적으로 측정된 음압 신호들에 대한 주파수 스펙트럼 분석을 통해 상기 입사파의 상기 소정의 지점으로의 집속율을 추정하는 단계를 포함하는 방법
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제 10 항에 있어서,상기 집속율을 추정하는 단계에서는, 상기 프로세서가 상기 주파수 스펙트럼 분석을 통해 도출된 상기 제 1 마이크로폰에 의해 측정된 음압 신호와 상기 제 2 마이크로폰에 의해 측정된 음압 신호의 비를 기초로 상기 집속율을 추정하는 것을 특징으로 하는 방법
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제 10 항에 있어서,상기 집속율을 추정하는 단계에서는, 상기 프로세서가 상기 제 3 마이크로폰에 의해 측정된 음압 신호에 대한 주파수 스펙트럼 분석을 통해 제 3 덕트모듈의 흠읍율 및 반사율을 추정하고, 상기 입사파에 대한 반사파의 영향을 보정하는 것을 특징으로 하는 방법
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제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항의 방법을 구현하기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터로 판독 가능한 기록 매체
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