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이차원 소재에 물리적 식각 공정 처리를 하여 목표로 하는 밀도의 나노 포어(nano pore) 및 작용기(functional group)를 포함하는 결정 결함(defect)을 형성하는 과정과,화학적 식각 공정을 이용하여 상기 형성된 결정 결함(defect)을 서브 나노미터의 정밀도로 추가 식각하여 목표로 하는 크기의 나노 포어를 형성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터 제조방법
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기판에 개구부를 형성하는 과정과,상기 기판의 개구부를 전체적으로 커버(cover)하도록 이차원 소재를 대면적으로 전사하는 과정과,상기 이차원 소재에 물리적 식각 공정 처리를 하여 목표로 하는 밀도의 나노 포어(nano pore) 및 작용기(functional group)를 포함하는 결정 결함(defect)을 형성하는 과정과,화학적 식각 공정을 이용하여 상기 형성된 결정 결함(defect)을 서브 나노미터의 정밀도로 추가 식각하여 목표로 하는 크기의 나노 포어를 형성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터 제조방법
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이차원 소재에 물리적 식각 공정 처리를 하여 목표로 하는 밀도의 나노 포어(nano pore) 및 작용기(functional group)를 포함하는 결정 결함(defect)을 형성하는 과정과,화학적 식각 공정을 이용하여 상기 형성된 결정 결함(defect)을 서브 나노미터의 정밀도로 추가 식각하여 목표로 하는 크기의 나노 포어를 형성하는 과정과,필터링하고자 하는 대상체가 상기 이차원 소재의 표면에 흡착하여 발생하는 필터 성능 저하를 방지하기 위하여 표면처리를 통해 상기 이차원 소재 표면의 친수성을 변경하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터 제조방법
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기판에 개구부를 형성하는 과정과,상기 기판의 개구부를 전체적으로 커버(cover)하도록 이차원 소재를 대면적으로 전사하는 과정과,상기 이차원 소재에 물리적 식각 공정 처리를 하여 목표로 하는 밀도의 나노 포어(nano pore) 및 작용기(functional group)를 포함하는 결정 결함(defect)을 형성하는 과정과,화학적 식각 공정을 이용하여 상기 형성된 결정 결함(defect)을 서브 나노미터의 정밀도로 추가 식각하여 목표로 하는 크기의 나노 포어를 형성하는 과정과,필터링하고자 하는 대상체가 상기 이차원 소재의 표면에 흡착하여 발생하는 필터 성능 저하를 방지하기 위하여 표면처리를 통해 상기 이차원 소재 표면의 친수성을 변경하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터 제조방법
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청구항 1 내지 청구항 4 중 선택되는 어느 한 항에 있어서,이차원 소재는 그래핀; 그래핀 옥사이드; 환원 그래핀 옥사이드; h-BN; phosphorene; MoS2, MoSe2, MoTe2, WS2, WSe2 또는 WTe2를 포함하는 전이금속 칼코겐화합물; 전이금속 산화물; 전이금속 카바이드/나이트라이드; silicene; germanene; arsenene; antimonene; borophene;을 포함하는, 평면 결정구조를 갖고 두께가 단일 원자층 수준 또는 다층인 물질 중 선택되는 어느 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터 제조방법
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청구항 1 내지 청구항 4 중 선택되는 어느 한 항에 있어서,물리적 식각 공정은 Ar, O2, H2 또는 N2의 플라즈마; UV/ozone; 집속이온빔(Focused Ion Beam); 투과 전자현미경(Transmission Electron Microscopy); 주사탐침 현미경 팁(Scanning Probe Microscope tip); 중 선택되는 어느 1종 또는 2종 이상을 이용한 식각 공정인 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터 제조방법
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청구항 1 내지 청구항 4 중 선택되는 어느 한 항에 있어서,화학적 식각 공정은 열산화(thermal oxidation); 전기화학반응; KMnO4/H2SO4 또는 Zn/HCl을 포함하는 습식 식각; 또는 원자층 식각(atomic layer etching); 중 선택되는 어느 1종 또는 2종 이상을 이용한 식각 공정인 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터 제조방법
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청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,표면처리는 오존(Ozone), UV/ozone, O2 플라즈마 또는 SAM(Self Assembled Monolayer)을 포함하는, 표면의 친수성을 변경하는 공정들 중 선택되는 어느 1종 또는 2종 이상을 이용한 식각 공정인 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터 제조방법
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청구항 1 내지 청구항 4 중 선택되는 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 나노 포어 필터
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