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흑연 분말을 건조시키는 단계; 건조된 상기 흑연 분말을, 베이스 챔버 내에 배치하는 단계; 및상기 베이스 챔버를 상기 베이스 챔버의 길이 방향을 축으로 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전시키며, 상기 베이스 챔버 내에 배치된 상기 흑연 분말을 플라즈마 처리하는 단계를 포함하는 흑연 표면 개질 방법
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제1 항에 있어서, 플라즈마 처리된 상기 흑연 분말은, 표면 전체가 개질된 것을 포함하는 흑연 표면 개질 방법
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제1 항에 있어서, 상기 흑연 분말의 플라즈마 처리 시간은 5분 이상 15분 이하인 것을 포함하는 흑연 표면 개질 방법
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제1 항에 있어서, 상기 플라즈마 처리 단계는, 상기 베이스 챔버 내에 소스 가스를 주입하는 단계; 상기 베이스 챔버 주위를 둘러싸는 전극에 MF(medium frequency)형 또는 RF(Radio frequency)형 전원을 공급하여, 상기 소스 가스로부터 플라즈마를 형성하는 단계; 및 상기 베이스 챔버를, 상기 베이스 챔버의 길이 방향을 축으로 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전시키는 단계를 포함하는 흑연 표면 개질 방법
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제1 항에 따른 방법으로 표면이 개질된 흑연을 준비하는 단계; 및 상기 흑연과 기능성 물질을 반응시켜, 상기 흑연의 표면에 상기 기능성 물질을 도핑하는 단계를 포함하는 기능성 흑연 복합체의 제조 방법
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제5 항에 있어서, 상기 기능성 물질은 APTES(3-Aminopropyltriethoxysilane), MPTMS(3-Mercaptopropyltrimethoxysilane), 및 EDA(ethylene diamond) 중 어느 하나를 포함하는 기능성 흑연 복합체의 제조 방법
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내부에 흑연 분말 및 소스 가스가 배치되는 빈 공간이 형성되고, 길이 방향을 축으로 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전되는 베이스 챔버; 및상기 베이스 챔버와 이격되어, 상기 베이스 챔버의 외주면을 감싸도록 배치되는 전극을 포함하는 흑연 표면 개질 장치
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제7 항에 있어서, 상기 전극에 전원이 공급되는 경우 상기 소스 가스로부터 플라즈마가 발생되고, 상기 플라즈마에 의하여 상기 흑연의 표면이 개질되는 것을 포함하는 흑연 표면 개질 장치
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제8 항에 있어서, 상기 전극에 전원이 공급됨과 함께, 상기 베이스 챔버가 회전되는 것을 포함하는 흑연 표면 개질 장치
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제7 항에 있어서, 상기 전극은 제1 내지 제3 전극을 포함하되, 상기 제1 내지 제3 전극은, 상기 베이스 챔버의 길이 방향으로 서로 이격되어 배치되는 것을 포함하는 흑연 표면 개질 장치
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제7 항에 있어서, 상기 전극은 구리 코일(Copper coil)을 포함하는 흑연 표면 개질 장치
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