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적층액 또는 도금액을 수용하는 저장 공간이 형성되는 수조부; 상기 저장 공간 내부에 배치되는 전극; 및 상기 전극과 일정간격 이격되고 여과막 지지체를 지지하는 지지체 고정부;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 전극은 원판 형상의 전극 몸체; 및 상기 전극 몸체에서 연장되는 전극 연장부;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
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제2항에 있어서, 상기 전극을 덮는 전극 고정대; 및 상기 전극 고정대를 상기 수조부에 설정된 높이로 고정하는 브라켓;을 더 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
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제3항에 있어서, 상기 전극 고정대는 상기 전극 몸체의 상면을 덮는 몸체 덮개부; 및 상기 전극 연장부가 삽입되는 연장부 덮개부;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 수조부의 일측에 형성되는 유입구; 및 상기 수조부의 타측에 형성되는 배출구;를 더 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 지지체 고정부는 상기 수조부의 개구된 하단에 구비되는 집전 덮개; 및 상기 집전 덮개의 하단에 구비되는 여과막 고정대;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
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제6항에 있어서, 상기 여과막 고정대는 상기 집전 덮개에 삽입되고, 상기 여과막 고정대와 상기 집전 덮개의 사이에 여과막이 개재되는 도전성 여과막 제조 장치
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제6항에 있어서, 여과막 고정대는 고정대 몸체; 및 상기 고정대 몸체의 하측에서 반경 방향 외측으로 연장되는 고정대 플랜지;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
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제8항에 있어서, 상기 고정대 몸체의 하단에는 배수 구멍이 형성되는 도전성 여과막 제조 장치
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제8항에 있어서, 상기 집전 덮개는 중앙이 개구된 원통 형상이고 상기 고정대 몸체가 삽입되는 집전 몸체;상기 집전 몸체의 하단에서 반경 방향 외측으로 연장되는 집전 하측 플랜지; 및 상기 집전 몸체의 상단에서 반경 방향 내측으로 연장되는 집전 상측 플랜지;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 적층액은 탄소나노튜브, 은나노와이어(silver nanowire), 금속나노입자(metal nanoparticle), 및 금속 콜로이드(metal colloids) 중 어느 하나로 이루어지거나, 이들의 혼합물인 도전성 여과막 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 도금액은 니켈, 망간, 은, 금, 구리, 아연, 및 크롬 중 어느 하나로 이루어지거나, 이들의 혼합물인 도전성 여과막 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 전극은 티타늄, 은, 백금, 및 유리상 탄소 중 어느 하나로 이루어지거나, 이들의 혼합물인 도전성 여과막 제조 장치
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제1항의 도전성 여과막 제조 장치를 이용한 도전성 여과막 제조 방법으로서, 상기 여과막 지지체를 상기 지지체 고정부에 삽입하는 단계; 상기 여과막 지지체가 삽입된 상기 지지체 고정부를 상기 수조부에 결합하는 단계; 상기 적층액을 상기 수조부의 저장 공간에 투입하는 단계; 및 상기 적층액을 상기 여과막 지지체에 여과하는 단계;를 포함하는 도전성 여과막 제조 방법
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제14항에 있어서, 상기 여과막 지지체에 전기 도금을 수행하는 단계;를 더 포함하는 도전성 여과막 제조 방법
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