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도전성 여과막 제조 장치 및 이를 이용한 제조 방법

  • 기술번호 : KST2021009285
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 도전성 여과막 제조 장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 도전성 여과막 제조 장치는 적층액 또는 도금액을 수용하는 저장 공간이 형성되는 수조부; 상기 저장 공간 내부에 배치되는 전극; 및 상기 전극과 일정간격 이격되고 여과막 지지체를 지지하는 지지체 고정부;을 포함할 수 있다.
Int. CL C25D 17/06 (2006.01.01) C25D 17/12 (2006.01.01) C25D 17/00 (2006.01.01) C25D 5/54 (2006.01.01) C25D 7/00 (2006.01.01) B05D 7/14 (2006.01.01) B05D 7/24 (2006.01.01) B01D 67/00 (2006.01.01) B01D 65/08 (2006.01.01) B01D 69/10 (2006.01.01) B01D 69/12 (2006.01.01) B01D 61/14 (2006.01.01) C02F 1/44 (2006.01.01)
CPC C25D 17/06(2013.01) C25D 17/12(2013.01) C25D 17/007(2013.01) C25D 5/54(2013.01) C25D 7/00(2013.01) B05D 7/14(2013.01) B05D 7/24(2013.01) B01D 67/0093(2013.01) B01D 65/08(2013.01) B01D 69/10(2013.01) B01D 69/12(2013.01) B01D 61/145(2013.01) B01D 61/147(2013.01) C02F 1/444(2013.01) B01D 2325/26(2013.01)
출원번호/일자 1020190175202 (2019.12.26)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0083439 (2021.07.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.12.26)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한종인 대전광역시 유성구
2 조훈 대전광역시 유성구
3 아짐 무쉬타크 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-1341599-62
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.11.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0041677-16
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.04.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0332733-55
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.06.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-0729213-89
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2021-0729212-33
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
적층액 또는 도금액을 수용하는 저장 공간이 형성되는 수조부; 상기 저장 공간 내부에 배치되는 전극; 및 상기 전극과 일정간격 이격되고 여과막 지지체를 지지하는 지지체 고정부;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 전극은 원판 형상의 전극 몸체; 및 상기 전극 몸체에서 연장되는 전극 연장부;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 전극을 덮는 전극 고정대; 및 상기 전극 고정대를 상기 수조부에 설정된 높이로 고정하는 브라켓;을 더 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
4 4
제3항에 있어서, 상기 전극 고정대는 상기 전극 몸체의 상면을 덮는 몸체 덮개부; 및 상기 전극 연장부가 삽입되는 연장부 덮개부;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 수조부의 일측에 형성되는 유입구; 및 상기 수조부의 타측에 형성되는 배출구;를 더 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 지지체 고정부는 상기 수조부의 개구된 하단에 구비되는 집전 덮개; 및 상기 집전 덮개의 하단에 구비되는 여과막 고정대;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
7 7
제6항에 있어서, 상기 여과막 고정대는 상기 집전 덮개에 삽입되고, 상기 여과막 고정대와 상기 집전 덮개의 사이에 여과막이 개재되는 도전성 여과막 제조 장치
8 8
제6항에 있어서, 여과막 고정대는 고정대 몸체; 및 상기 고정대 몸체의 하측에서 반경 방향 외측으로 연장되는 고정대 플랜지;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
9 9
제8항에 있어서, 상기 고정대 몸체의 하단에는 배수 구멍이 형성되는 도전성 여과막 제조 장치
10 10
제8항에 있어서, 상기 집전 덮개는 중앙이 개구된 원통 형상이고 상기 고정대 몸체가 삽입되는 집전 몸체;상기 집전 몸체의 하단에서 반경 방향 외측으로 연장되는 집전 하측 플랜지; 및 상기 집전 몸체의 상단에서 반경 방향 내측으로 연장되는 집전 상측 플랜지;를 포함하는 도전성 여과막 제조 장치
11 11
제1항에 있어서, 상기 적층액은 탄소나노튜브, 은나노와이어(silver nanowire), 금속나노입자(metal nanoparticle), 및 금속 콜로이드(metal colloids) 중 어느 하나로 이루어지거나, 이들의 혼합물인 도전성 여과막 제조 장치
12 12
제1항에 있어서,상기 도금액은 니켈, 망간, 은, 금, 구리, 아연, 및 크롬 중 어느 하나로 이루어지거나, 이들의 혼합물인 도전성 여과막 제조 장치
13 13
제1항에 있어서,상기 전극은 티타늄, 은, 백금, 및 유리상 탄소 중 어느 하나로 이루어지거나, 이들의 혼합물인 도전성 여과막 제조 장치
14 14
제1항의 도전성 여과막 제조 장치를 이용한 도전성 여과막 제조 방법으로서, 상기 여과막 지지체를 상기 지지체 고정부에 삽입하는 단계; 상기 여과막 지지체가 삽입된 상기 지지체 고정부를 상기 수조부에 결합하는 단계; 상기 적층액을 상기 수조부의 저장 공간에 투입하는 단계; 및 상기 적층액을 상기 여과막 지지체에 여과하는 단계;를 포함하는 도전성 여과막 제조 방법
15 15
제14항에 있어서, 상기 여과막 지지체에 전기 도금을 수행하는 단계;를 더 포함하는 도전성 여과막 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.