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폴리실라잔 화합물을 포함하는 층을 상온 상압에서 자외선 오존 처리로 전환처리 하여, 적외선 분광법(FT-IR)에 의한 스펙트럼 분석 시, 1060cm-1의 파장 영역에서 Si-O 피크의 흡광도(AU)와, 840 cm-1의 파장 영역에서 Si-N 피크의 흡광도(AU)를 가지는 폴리실라잔층; 나노세공체 및 바인더 수지를 함유하는 유기 필름층; 및기재필름;을 포함하며, 상기 폴리실라잔층이 기체 투과 방향에 대해 최외층에 형성된 것인 고투명성을 갖는 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 기체 차단 필름은 기체 투과 방향으로부터 폴리실라잔층; 유기 필름층; 및 기재필름;이 순차적으로 적층된 것인 고투명성을 갖는 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 기체 차단 필름은 기체 투과 방향으로부터 폴리실라잔층; 기재필름; 및 유기 필름층;이 순차적으로 적층된 것인 고투명성을 갖는 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 폴리실라잔층과 유기 필름층 사이 또는 폴리실라잔층과 기재필름 사이에 결합증진 코팅층을 더 포함하는 것인 기체 차단 필름
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제 4항에 있어서,상기 결합증진 코팅층은 경화성 수지 조성물을 도포하여 형성한 것인 기체 차단 필름
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제 1항 또는 제 4항에 있어서,상기 폴리실라잔층의 상부에 보호코팅층을 더 포함하는 것인 기체 차단 필름
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제 6항에 있어서,상기 보호코팅층은 경화성 수지 조성물을 도포하여 형성한 것인 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 폴리실라잔층은 하기 식 1을 만족하는 것인 기체 차단 필름
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제 8항에 있어서,상기 기체 차단 필름은 제조한지 7일 후 측정된 [Si-O]1060/[Si-N]840 와, 초기 측정된 [Si-O]1060/[Si-N]840 의 차이가 2 이하인 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 폴리실라잔층은 질소 및 오존 분위기하에서 184nm의 저압수은램프를 10분 내지 2 시간 동안 조사하여 전환처리 한 것인 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 기재필름은 고분자 필름인 것인 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 나노세공체는 세공의 크기가 2nm 이하의 미세 세공체, 2~50nm 수준의 메조 세공체 및 양쪽 세공 크기 영역을 모두 가지는 초다공성인 하이브리드 나노 세공체에서 선택되는 기체 차단 필름
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제 12항에 있어서,상기 나노세공체는 제올라이트 또는 유무기 하이브리드 나노 세공체인 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 폴리실라잔층은 두께가 10 내지 1000 nm이고,상기 유기 필름층은 두께가 1 내지 300㎛이고,상기 기재필름은 두께가 30 내지 500 ㎛인 기체 차단 필름
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 기체 차단 필름의 수분투과도(WVTR)와 자외선 오존 처리 하지 않은 폴리실라잔층을 갖는 기체 차단 필름 대비 수분투과도(WVTR)의 차이가 1 × 101 g/㎡·day 이하인 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 차단하고자 하는 기체는 수분인 것인 기체 차단 필름
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제 1항에 있어서,상기 기체 차단 필름은 550nm에서의 투과도가 90 % 이상이고, 표면조도가 0
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a) 기재필름 상에 나노세공체 및 바인더 수지를 함유하는 유기 필름층을 형성하는 단계;b) 상기 유기 필름층 상에 또는 상기 기재필름의 타면에 결합 증진 코팅층을 형성하는 단계;c) 상기 결합 증진 코팅층 상에 폴리실라잔 화합물을 포함하는 층을 형성하고, 상온 상압에서 자외선 오존 처리하여 적외선 분광법(FT-IR)에 의한 스펙트럼 분석 시, 1060cm-1의 파장 영역에서 Si-O 피크의 흡광도(AU)와, 840 cm-1의 파장 영역에서 Si-N 피크의 흡광도(AU)를 가지는 폴리실라잔층을 전환 처리하는 단계;를 포함하는 기체 차단 필름의 제조방법
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제 18항에 있어서,상기 c) 단계에서 상기 전환 처리는 질소 및 오존 분위기하에서 184nm의 저압수은램프를 10분 내지 2 시간 동안 조사하여 전환처리 한 것인 기체 차단 필름의 제조방법
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