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고분자 필름 제조 방법 및 고분자 필름 조성물

  • 기술번호 : KST2021009368
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 고분자 필름 제조 방법 및 고분자 필름 조성물이 제공된다. 본 발명에 따르면, 고분자 필름의 제조 방법은 제1 작용기를 포함하는 제1 코폴리머를 준비하는 것; 제2 작용기를 포함하는 제2 코폴리머를 준비하는 것; 제3 작용기를 포함하는 제1 화합물을 준비하는 것; 및 상기 제1 코폴리머, 상기 제2 코폴리머, 및 상기 제1 화합물을 혼합하여 가교반응을 수행하는 것;을 포함하되, 상기 가교반응은 상기 제1 작용기와 상기 제2 작용기가 반응하는 것 및 상기 제1 작용기와 상기 제3 작용기가 반응하는 것을 포함하고, 상기 제1 화합물은 비닐 그룹, 아릴 그룹, 및 아크릴레이트 그룹 중 선택되는 어느 하나와 극성 그룹을 포함하고, 상기 제3 작용기는 상기 제2 작용기에 대해 반응성을 가지되, 상기 제1 작용기에 대해 반응성을 갖지 않을 수 있다.
Int. CL C08J 5/18 (2006.01.01) C08J 3/24 (2006.01.01) C08K 5/00 (2006.01.01) C08L 83/10 (2006.01.01) C08L 83/04 (2006.01.01) C08G 77/20 (2006.01.01)
CPC C08J 5/18(2013.01) C08J 3/24(2013.01) C08K 5/0025(2013.01) C08L 83/10(2013.01) C08L 83/04(2013.01) C08G 77/20(2013.01)
출원번호/일자 1020190176236 (2019.12.27)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0084741 (2021.07.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박승구 세종특별자치시 달빛*로
2 박봉제 대전시 유성구
3 최미정 대전광역시 유성구
4 박선택 대전광역시 서구
5 신은진 세종시 새롬남로 ***,
6 윤성률 대전광역시 서구
7 윤재웅 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2019-1347273-23
2 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2020.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2020-0509357-16
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번호 청구항
1 1
제1 작용기를 포함하는 제1 코폴리머를 준비하는 것;제2 작용기를 포함하는 제2 코폴리머를 준비하는 것;제3 작용기를 포함하는 제1 화합물을 준비하는 것; 및상기 제1 코폴리머, 상기 제2 코폴리머, 및 상기 제1 화합물을 혼합하여 가교반응을 수행하는 것;을 포함하되,상기 가교반응은 상기 제1 작용기와 상기 제2 작용기가 반응하는 것 및 상기 제1 작용기와 상기 제3 작용기가 반응하는 것을 포함하고,상기 제1 화합물은 비닐 그룹, 아릴 그룹, 및 아크릴레이트 그룹 중 선택되는 어느 하나와 극성 그룹을 포함하고,상기 제3 작용기는 상기 제2 작용기에 대해 반응성을 가지되, 상기 제1 작용기에 대해 반응성을 갖지 않는 고분자 필름 제조 방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 제1 화합물은 트리에틸렌글라이콜 다이비닐 에테르(tri(ethylene glycol) divinyl ether), 에틸렌글라이콜 디아크릴레이트 (ethylene glycol diacrylate), 디에틸렌글라이콜 디아크릴레이트 (di(ethylene glycol) diacrylate), 트리에틸렌글라이콜 디아크릴레이트 (tri(ethylene glycol) diacrylate), 테트라에틸렌글라이콜 디아크릴레이트 (tetra(ethylene glycol) diacrylate), 아크릴로나이트릴(acrylonitrile), 아크릴산 (acrylic acid), 비닐아세테이트 (vinyl acetate), 에틸비닐에테르(ethyl vinyl ether), 에틸렌글라이콜비닐에테르(ethylene glycol vinyl ether), 1,4-부탄디올비닐에테르(1,4-butanediol vinyl ether), 소듐아크릴레이트(sodium acrylate), 소듐아릴술포네이트 (sodium allylsulfonate), 비닐아세트산 (vinyl acetic acid), 4-비닐벤젠술포네이트(4-vinylbenzenesulfornate), 및 2-메틸-2-프로펜-1-술폰산염(2-methyl-2-propene-1-sulfornic acid sodium salt) 중에서 선택된 하나를 포함하는 고분자 필름 제조 방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 제1 작용기 및 제3 작용기는 vinyl group이고, 제2 작용기는 hydridosilyl group인 고분자 필름 제조 방법
4 4
제 1항에 있어서,상기 가교반응은 수소규소화 반응(hydrosilylation)을 포함하는 고분자 필름 제조 방법
5 5
제 1항에 있어서, 제1 코폴리머 및 제2 코폴리머는 폴리실록산(polysiloxane)을 포함하는 고분자 필름 제조 방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 제1 코폴리머는 제1 폴리머 및 제2 폴리머를 포함하고,상기 제1 폴리머는 화학식 1로 표시되는 중합 유닛을 포함하는 고분자 필름 제조 방법
7 7
제 6항에 있어서, 상기 제2 폴리머는 화학식 3으로 표시되는 중합 유닛을 포함하는 고분자 필름 제조방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 제1 작용기는 상기 제3 작용기와 동일한 고분자 필름 제조 방법
9 9
제 1항에 있어서, 상기 제1 코폴리머, 상기 제2 코폴리머, 및 제1 화합물을 혼합하여 가교반응을 수행하는 것은:상기 제1 코폴리머, 상기 제2 코폴리머, 및 상기 제1 화합물을 혼합하여 고분자 필름 조성물을 제조하는 것;상기 고분자 필름 조성물을 성형하여 고분자 액상막을 형성하는 것; 및상기 고분자 액상막에 열처리 과정을 수행하여 상기 제1 코폴리머와 상기 제2 코폴리머를 결합시키고, 상기 제2 코폴리머와 상기 제1 화합물을 결합시키는 것을 포함하는 고분자 필름 제조 방법
10 10
제1 항에 있어서,상기 제2 코폴리머는 제3 폴리머 및 제4 폴리머를 포함하고,상기 제3 폴리머는 화학식 5로 표시되는 중합 유닛을 포함하는 고분자 필름 제조 방법
11 11
제10 항에 있어서,상기 제1 코폴리머는 제1 폴리머 및 제2 폴리머를 포함하고,상기 제4 폴리머는 상기 제2 폴리머와 동일한 고분자 필름 제조 방법
12 12
제1 모노머로부터 유도된 제1 폴리머 및 제2 모노머로부터 유도된 제2 폴리머를 포함하는 제1 코폴리머;상기 제2 폴리머 및 제3 모노머로부터 유도된 제3 폴리머를 포함하는 제2 코폴리머; 및제1 화합물을 포함하되,상기 제1 화합물은 비닐 그룹, 아릴 그룹, 및 아크릴레이트 그룹 중 선택되는 어느 하나와 극성 그룹을 포함하고,상기 제1 코폴리머 및 제2 코폴리머는 polydimethylsiloxane(PDMS)계 고분자를 포함하는 고분자 필름 조성물
13 13
제12 항에 있어서,상기 제1 폴리머는 제1 작용기를 포함하고,상기 제3 폴리머는 상기 제1 작용기에 대해 반응성을 갖는 제2 작용기를 포함하고,상기 제1 화합물은 상기 제2 작용기에 대해 반응성을 갖는 제3 작용기를 포함하되,상기 제3 작용기는 상기 제1 작용기에 대해 반응성을 갖지 않는 고분자 필름 조성물
14 14
제13 항에 있어서,상기 제1 작용기 및 제3 작용기는 vinyl group이고, 제2 작용기는 hydridosilyl group인 고분자 필름 조성물
15 15
제12 항에 있어서,상기 제1 화합물은 트리에틸렌글라이콜 다이비닐 에테르(tri(ethylene glycol) divinyl ether), 에틸렌글라이콜 디아크릴레이트 (ethylene glycol diacrylate), 디에틸렌글라이콜 디아크릴레이트 (di(ethylene glycol) diacrylate), 트리에틸렌글라이콜 디아크릴레이트 (tri(ethylene glycol) diacrylate), 테트라에틸렌글라이콜 디아크릴레이트 (tetra(ethylene glycol) diacrylate), 아크릴로나이트릴(acrylonitrile), 아크릴산 (acrylic acid), 비닐아세테이트 (vinyl acetate), 에틸비닐에테르(ethyl vinyl ether), 에틸렌글라이콜비닐에테르(ethylene glycol vinyl ether), 1,4-부탄디올비닐에테르(1,4-butanediol vinyl ether), 소듐아크릴레이트(sodium acrylate), 소듐아릴술포네이트 (sodium allylsulfonate), 비닐아세트산 (vinyl acetic acid), 4-비닐벤젠술포네이트(4-vinylbenzenesulfornate), 및 2-메틸-2-프로펜-1-술폰산염(2-methyl-2-propene-1-sulfornic acid sodium salt) 중에서 선택된 하나를 포함하는 고분자 필름 조성물
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제12 항에 있어서,상기 제1 폴리머는 화학식 1로 표시되는 중합 유닛을 포함하는 고분자 필름 조성물
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제12 항에 있어서,상기 제2 폴리머는 화학식 3으로 표시되는 중합 유닛을 포함하는 고분자 필름 조성물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 방위사업청 한국전자통신연구원(ETRI) 민군겸용기술개발사업 초점가변 폴리머 렌즈/미러 개발