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적어도 하나의 프로세서; 및모형안을 저장하는 메모리를 포함하고,상기 프로세서는,디지털 홀로그램으로부터 홀로그램 재현 영상을 복원하고,사용자의 안구에 대응하는 상기 모형안 및 파면 전파 함수를 설정하고,상기 파면 전파 함수를 기초로 상기 홀로그램 재현 영상이 상기 모형안을 통과하여 형성되는 망막 영상을 계산하고,상기 망막 영상의 화질을 평가하는,화질 평가 장치
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제1항에 있어서, 상기 모형안은 각막, 방수, 동공, 수정체, 유리체 및 망막을 포함하는,화질 평가 장치
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제1항에 있어서,상기 파면 전파 함수는 자유 공간의 파면 전파 함수 및 상기 모형안 내에서의 파면 전파 함수를 포함하는,화질 평가 장치
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제1항에 있어서,상기 프로세서는,투과율 함수를 설정하고,상기 파면 전파 함수 및 상기 투과율 함수를 기초로 상기 홀로그램 재현 영상이 상기 모형안을 통과하여 형성되는 망막 영상을 계산하는,화질 평가 장치
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제4항에 있어서,상기 투과율 함수는 각막의 투과율 함수 및 수정체의 투과율 함수를 포함하는,화질 평가 장치
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제1항에 있어서,상기 프로세서는,파면 수차 분석을 통하여 각막을 통과하여 생성되는 각막 영상 및 수정체를 통과하여 생성되는 수정체 영상을 계산하는,화질 평가 장치
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7
제1항에 있어서,상기 프로세서는,변조 전달 함수, 점 퍼짐 함수 또는 스트렐 비율을 이용하여 상기 망막 영상의 화질을 평가하는,화질 평가 장치
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디지털 홀로그램으로부터 홀로그램 재현 영상을 복원하는 단계;사용자의 안구에 대응하는 모형안 및 파면 전파 함수를 설정하는 단계;상기 파면 전파 함수를 기초로 상기 홀로그램 재현 영상이 상기 모형안을 통과하여 형성되는 망막 영상을 계산하는 단계; 및상기 망막 영상의 화질을 평가하는 단계를 포함하는, 화질 평가 방법
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제8항에 있어서, 상기 모형안은 각막, 방수, 동공, 수정체, 유리체 및 망막을 포함하는,화질 평가 방법
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제8항에 있어서,상기 파면 전파 함수는 자유 공간의 파면 전파 함수 및 상기 모형안 내에서의 파면 전파 함수를 포함하는,화질 평가 방법
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제8항에 있어서,상기 화질 평가 방법은,투과율 함수를 설정하는 단계를 더 포함하고,상기 망막 영상을 계산하는 단계는,상기 파면 전파 함수 및 상기 투과율 함수를 기초로 상기 홀로그램 재현 영상이 상기 모형안을 통과하여 형성되는 망막 영상을 계산하는,화질 평가 방법
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제11항에 있어서,상기 투과율 함수는 각막의 투과율 함수 및 수정체의 투과율 함수를 포함하는,화질 평가 방법
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제8항에 있어서,상기 망막 영상을 계산하는 단계는,파면 수차 분석을 통하여 각막을 통과하여 생성되는 각막 영상 및 수정체를 통과하여 생성되는 수정체 영상을 계산하는,화질 평가 방법
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제8항에 있어서,상기 화질을 평가하는 단계는,변조 전달 함수, 점 퍼짐 함수 또는 스트렐 비율을 이용하여 상기 망막 영상의 화질을 평가하는,화질 평가 방법
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