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토양 및 지하수를 포함하는 지중의 오염 물질을 제거하기 위한 원위치 화학적 산화방법(In-situ chemical oxidation)에 있어서,금속황화물(metal sulfide)과 전기를 이용하여 지중의 오염 물질을 제거하기 위한 원위치 화학적 산화방법
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제1항에 있어서,지하수에 포함된 오염 물질을 제거하기 위한 것인 원위치 화학적 산화방법
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제1항에 있어서,상기 금속황화물을 먼저 공급한 후 이후에 전기를 공급하거나, 상기 금속황화물과 전기를 동시에 공급하거나, 전기를 먼저 공급한 후 이후에 상기 금속황화물을 공급하는 것인 원위치 화학적 산화방법
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제1항에 있어서,상기 금속황화물(metal sulfide)과 전기를 이용하는 것은 a) 지중에 전기를 공급하거나, b) 지중에 다량 존재하는 금속황화물에 산소, 질소, 또는 산소 및 질소를 공급하거나, c) 지중에 금속황화물과 산소, 질소, 또는 산소 및 질소를 동시에 공급하는 것 중 적어도 하나 이상을 사용하여 지중에서 산화제를 생성하는 것인 원위 화학적 산화방법
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제1항에 있어서,상기 금속황화물은 FeS, MnS, MoS2, Cu2S, WS2 중 적어도 하나 이상인 원위치 화학적 산화방법
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제5항에 있어서,상기 금속황화물은 FeS인 원위치 화학적 산화방법
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제5항에 있어서,상기 금속황화물은 10g/liter 이상을 공급하는 원위치 화학적 산화방법
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제1항에 있어서,상기 전기는 10㎃ 이상을 공급하는 원위치 화학적 산화방법
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제1항에 있어서,원위치 화학적 산화방법은 4시간 이상 지속되는 원위치 화학적 산화방법
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제1항에 있어서,상기 금속황화물과 산소, 질소, 또는 산소 및 질소를 같이 이용하는 원위치 화학적 산화방법
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제1항 내지 제10항에 따른 원위치 화학적 산화방법에 의해서 지중의 오염 물질을 제거하는 원위치 지중 오염 물질 제거 장치
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