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기판상에 써멀 임프린트 방식을 이용해 형성되는 음각의 나노 구조체;상기 음각의 나노 구조체를 갖는 기판상에 금속 나노 입자를 드롭(dropping)하고 솔루션(solution)을 증발시키는 것에 의해 나노 구조체의 안에 위치되는 금속 나노 입자;를 포함하여 금속 나노입자 사이 사이의 간격을 줄여 전계를 형성하는 플라즈모닉 나노구조 패턴을 구성하고,플라즈모닉 나노구조 패턴의 금속 나노입자들이 국부적인 전계를 만들어 그사이에 태양광의 전자들이 트랩핑(trapping) 되도록 하는 것을 특징으로 하는 태양광 패널 효율 증대를 위한 플라즈모닉 나노구조
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제 1 항에 있어서, 음각의 나노 구조체는,나방눈 형태의 반사방지 나노구조이고, 나노구조의 굴절률이 증가하면서 빛이 반사되지 않고 굴절로 나노구조의 안으로 들어가는 구조이고,직경(Diameter)은 270nm ~ 290nm, 피치(Pitch)는 290nm ~ 310nm, 높이(Height)는 320nm ~ 340nm, 접촉각은 60°인 반사방지 나노구조체인 것을 특징으로 하는 태양광 패널 효율 증대를 위한 플라즈모닉 나노구조
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제 2 항에 있어서, 반사방지 나노구조체는,빛이 입사하였을 때 나노구조의 특징을 통해서 경사굴절률을 갖는 것에 의해 나노구조가 빛과 마주한 면적자체가 넓어짐에 따라서 유효굴절률이 변화하는 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 태양광 패널 효율 증대를 위한 플라즈모닉 나노구조
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제 1 항에 있어서, 플라즈모닉 나노구조 패턴은,전자들이 금속 나노 입자들의 위치에서 움직이지 않으면서 진동을 하면서 전계를 생성하는 국소 표면 플라즈모닉 공명(Localized surface plamonic resonance) 효과를 이용하는 것을 특징으로 하는 태양광 패널 효율 증대를 위한 플라즈모닉 나노구조
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플라즈모닉 나노구조를 제작하기 위해서 양각의 스탬프를 준비하는 단계;양각의 스탬프를 폴리머성 기판상에 위치시키고 써멀 임프린트(thermal imprint) 공정을 진행하는 단계;폴리머성 기판을 굳히기 위하여 유리전이 온도 이하에서 디몰딩(demolding)을 하여 음각의 나노 구조체를 형성하는 단계;금속 나노 입자를 음각의 나노 구조체를 갖는 폴리머성 기판에 드롭(dropping)하고 솔루션(solution)을 제거하여 금속나노 입자만이 나노 구조체의 안에 들어가 금속 나노입자 사이사이의 간격을 줄여 전계를 형성하는 플라즈모닉 나노구조 패턴을 제작하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양광 패널 효율 증대를 위한 플라즈모닉 나노구조 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 금속 나노 입자를 음각의 나노 구조체를 갖는 폴리머성 기판에 드롭(dropping)하는 공정은,10nm 직경(diameter)를 갖는 은(silver) 나노입자를 15uL씩 나노 구조체 위에 드롭(dropping)하여 30분간 베이킹(baking)하고 솔루션(solution)을 제거(Evaporation)하는 것을 특징으로 하는 태양광 패널 효율 증대를 위한 플라즈모닉 나노구조 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 써멀 임프린트(thermal imprint) 공정을 진행하는 단계에서,양각의 스탬프를 이용해 음각의 나노 구조체를 제작하기 위해 온도와 압력을 주어 폴리머성 기판을 rubbery state로 만들고, 145℃의 온도 조건에서 50MPa의 압력을 300s 동안 가하는 것으로 특징으로 하는 태양광 패널 효율 증대를 위한 플라즈모닉 나노구조 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 폴리머성 기판을 굳히기 위하여 유리전이 온도 이하인 75℃에서 디몰딩(demolding)을 하여 나노 구조체를 제작하는 것을 특징으로 하는 태양광 패널 효율 증대를 위한 플라즈모닉 나노구조 제조 방법
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