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공명현상을 이용한 자성 나노 입자의 발열 방법

  • 기술번호 : KST2021010238
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 공명현상을 이용한 자성 나노 입자의 발열 방법으로서, (a) 자성 나노 입자를 제공하는 단계; (b) 상기 자성 나노 입자에 직류 자기장을 인가하는 단계; 및 (c) 상기 자성 나노 입자에 교류 자기장을 인가하는 단계를 포함하고, 인가하는 직류 자기장의 세기, 교류 자기장의 주파수, 교류 자기장의 세기, 교류 자기장의 인가 펄스 폭(pulse width) 중 적어도 어느 하나를 조절하여, 자성 나노 입자의 온도 변화속도(dT/dt)를 적어도 10(K/s)보다 크게 만드는 것을 특징으로 한다.
Int. CL A61N 2/02 (2006.01.01) A61N 2/00 (2006.01.01) A61K 41/00 (2020.01.01) H01F 1/00 (2006.01.01)
CPC A61N 2/02(2013.01) A61N 2/004(2013.01) A61K 41/0052(2013.01) H01F 1/0045(2013.01)
출원번호/일자 1020200018124 (2020.02.14)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0103682 (2021.08.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.02.14)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상국 경기도 성남시 분당구
2 이재혁 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 김한 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
3 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.02.14 수리 (Accepted) 1-1-2020-0157274-13
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
3 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2021.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2021-5205564-29
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번호 청구항
1 1
(a) 자성 나노 입자를 제공하는 단계; (b) 상기 자성 나노 입자에 직류 자기장을 인가하는 단계; 및(c) 상기 자성 나노 입자에 교류 자기장을 인가하는 단계를 포함하고,인가하는 직류 자기장의 세기, 교류 자기장의 주파수, 교류 자기장의 세기, 교류 자기장의 인가 펄스 폭(pulse width) 중 적어도 어느 하나를 조절하여, 자성 나노 입자의 온도 변화속도(dT/dt)를 적어도 10(K/s)보다 크게 만드는, 자성 나노 입자의 발열 방법
2 2
제1항에 있어서,(b) 단계에서 자성 나노 입자가 공명 주파수를 가지도록 직류 자기장을 인가하고, (c) 단계에서 자성 나노 입자의 공명 주파수와 동일한 주파수의 교류 자기장을 인가하여, 자성 나노 입자의 온도 변화속도(dT/dt)가 최대치를 나타내도록 하는, 자성 나노 입자의 발열 방법
3 3
제1항에 있어서,인가하는 직류 자기장의 세기는 2,000 Oe보다 적은(0 Oe 초과), 자성 나노 입자의 발열 방법
4 4
제1항에 있어서,인가하는 교류 자기장의 주파수는 500 MHz 내지 6 GHz인, 자성 나노 입자의 발열 방법
5 5
제1항에 있어서,교류 자기장의 인가 펄스 폭(pulse width)은 0
6 6
제1항에 있어서,인가하는 교류 자기장의 세기는 10 Oe보다 적은(0 Oe 초과), 자성 나노 입자의 발열 방법
7 7
제2항에 있어서,교류 자기장의 주파수를 증가시켜 자성 나노 입자의 온도 변화속도(dT/dt)의 최대치를 증가시키는, 자성 나노 입자의 발열 방법
8 8
제2항에 있어서,교류 자기장의 세기를 증가시켜 자성 나노 입자의 온도 변화속도(dT/dt)의 최대치를 증가시키는, 자성 나노 입자의 발열 방법
9 9
제1항에 있어서,상기 자성 나노 입자는 5nm 이상, 500nm 미만의 직경을 가지는, 자성 나노 입자의 발열 방법
10 10
제9항에 있어서,상기 자성 나노 입자는,초상자성 또는 단자구 형태의 자화 배열 구조를 갖는 자성 나노 입자이거나,자기 소용돌이 코어 성분, 수평 자화 성분 및 나선 자화 성분을 포함하는 자기소용돌이 구조(Magnetic Vortex Structure)를 가지는 자성 나노 입자인, 자성 나노 입자의 발열 방법
11 11
제1항에 있어서,상기 자성 나노 입자는 Permalloy(Ni80Fe20), Maghemite(γ-Fe2O3), Magnetite(γ-Fe3O4), BariumFerrite(BaxFeyOz; x, y, z는 임의의 조성), MnFe2O4, NiFe2O4, ZnFe2O4 및 CoFe2O4 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 자성 나노 입자의 발열 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 서울대학교 산학협력단 중견연구자지원사업 광-마그논 상호 작용에 의한 음굴절 현상 연구