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웨이퍼(104); 및 상기 웨이퍼(104)의 상면에 적층되는 코팅부(200);를 포함하며,상기 코팅부(200)는, 은나노 와이어층(220) 및 로다인 6G층(230)이 순차적으로 적층되어 이루어지며,상기 은나노 와이어층(220)은 은나노 와이어(Ag nanowire) 용액(103)을 웨이퍼(104)의 상기 상면에 도포하여 형성되며, 상기 은나노 와이어 용액(103)은 은나노 와이어 입자를 에탄올 용매에 혼합하며, 상기 로다인 6G층(230)은 로다인(Rhodamine) 6G 용액(102)을 웨이퍼(104)의 상기 상면에 도포하여 형성되며,상기 로다인(Rhodamine) 6G 용액(102)은 0
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제 1 항에 있어서,상기 웨이퍼(104)의 직경은 300nm인 것을 특징으로 하는 화학가스 검출기판
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제 1 항에 있어서, 상기 에탄올 용매는 10배 희석하여 사용하며, 100℃에서 10분 동안 가열됨으로써 증발되는 것을 특징으로 하는 화학가스 검출기판
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제 5 항에 있어서,상기 은나노 와이어 입자는 지름이 50nm이고, 길이가 5 ~ 50μm인 것을 특징으로 하는 화학가스 검출기판
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제 1 항에 있어서,상면이 개방되며 내측벽에 나사산(107-2)이 형성되고, 상기 웨이퍼(104)의 하단면이 부착되는 내측 바닥면(107-1)이 형성되는 지지 플레이트(107);를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학가스 검출기판
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제 9 항에 있어서,상기 지지 플레이트(107)와 체결되며 화학가스(108)가 담긴 가스 챔버(109);를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학가스 검출기판
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제 10 항에 있어서,레이저를 발사하여 형광 측정이 진행되며, 상기 레이저는 로다민 6G의 550 ~ 650nm 부근의 파장을 갖는 형광(110)보다 작은 405nm의 파장을 갖는 레이저(111)인 것을 특징으로 하는 화학가스 검출기판
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제 1 항에 있어서, 상기 은나노 와이어층(220)의 표면은 표면 플라즈몬 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 화학가스 검출기판
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(a) 웨이퍼(104)를 준비하는 단계; 및 (b) 상기 웨이퍼(104)의 상면에 코팅부(200)가 적층되는 단계;를 포함하며,상기 코팅부(200)는, 은나노 와이어층(220) 및 로다인 6G층(230)이 순차적으로 적층되어 이루어지며,상기 은나노 와이어층(220)은 은나노 와이어(Ag nanowire) 용액(103)을 웨이퍼(104)의 상기 상면에 도포하여 형성되며, 상기 은나노 와이어 용액(103)은 은나노 와이어 입자를 에탄올 용매에 혼합하며, 상기 로다인 6G층(230)은 로다인(Rhodamine) 6G 용액(102)을 웨이퍼(104)의 상기 상면에 도포하여 형성되며,상기 로다인(Rhodamine) 6G 용액(102)은 0
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