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CHA 제올라이트 분리막을 150~300℃의 온도 및 오존 분위기하에서 소성시키는 단계를 포함하는 CHA 제올라이트 분리막의 결함구조 조절방법
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제1항에 있어서, 175~275℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 결함구조 조절방법
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제1항에 있어서, 0
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제1항에 있어서, 상기 CHA 제올라이트 분리막은 CHA 씨앗층이 형성된 지지체 위에 유기구조유도체: SiO2: H2O: Na2O: Al2O3의 몰비는 1~100: 100: 1000~20000: 1~500: 0~50의 몰비로 구성된 이차 성장용액을 첨가하고 수열합성시키는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 결함구조 조절방법
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제4항에 있어서, 상기 유기구조유도체는 TMAdaOH (N,N,N-trimethyl adamantylammonium hydroxide), TMAdaBr (N,N,N-trimethyl adamantylammonium bromide), TMAdaF (N,N,N-trimethyl adamantylammonium fluoride), TMAdaCl (N,N,N-trimethyl adamantylammonium chloride), TMAdaI(N,N,N-trimethyl adamantylammonium iodide), TEAOH (tetraethylammonium hydroxide), TEABr (tetraethylammonium bromide), TEAF (tetraethylammonium fluoride), TEACl (tetraethylammonium chloride), TEAI (tetraethylammonium iodide) 및 사이클로헥실아민(cyclohexylamine)으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 결함구조 조절방법
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제4항에 있어서, 상기 수열합성은 100~200 ℃의 온도에서 12~240 시간동안 수행되는 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 결함구조 조절방법
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제4항에 있어서, 상기 수열합성 이후에 분리막을 30~200 ℃의 온도에서 1~24 시간 동안 건조시키는 단계를 추가로 포함하는 CHA 제올라이트 분리막의 결함구조 조절방법
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제4항에 있어서, 상기 지지체는 알루미나, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리설폰, 폴리이미드, 실리카, 글래스 감마-알루미나, 멀라이트(mullite), 지르코니아(zirconia), 티타니아(titania), 이트리아(yttria), 세리아(ceria), 바나디아(vanadia), 실리콘, 스테인레스 스틸 및 카본으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 CHA 제올라이트 분리막의 결함구조 조절방법
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 방법에 의해 결함구조가 조절되어 0
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제9항의 CHA 제올라이트 분리막을 이용하여 CH4, CO, SO2, N2, O2, C2H4, C2H6, C3H6 및 C3H8으로 구성된 군에서 선택되는 분자와 CO2, H2 또는 He을 포함하는 혼합물로부터 CO2, H2 또는 He을 분리하는 방법
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제10항에 있어서, 상기 혼합물은 수분을 포함하는 배가스, 합성가스, 배출가스, 천연가스 또는 바이오가스인 것을 특징으로 하는 CO2, H2 또는 He을 분리하는 방법
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제9항의 CHA 제올라이트 분리막을 이용하여 물과 유기용매의 혼합물로부터 물을 분리하는 방법
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제12항에 있어서, 상기 유기용매는 카복실산 또는 알코올인 것을 특징으로 하는 물을 분리하는 방법
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