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기판과 유체를 수용하기 위한 내부공간을 가지는 증착 챔버;상기 증착 챔버의 내부공간으로 반응유체를 공급하는 유체 공급기;상기 증착 챔버를 진공 상태로 유지하기 위한 진공 펌프;상기 증착 챔버에서 상기 진공 펌프로 반응유체가 이동하도록 유로를 제공하는 가스 라인;상기 가스 라인과 연통되고, 상기 증착 챔버에 수용된 반응유체의 머무름 시간을 조절하는 리텐션 밸브; 및상기 리텐션 밸브의 작동을 제어하는 컨트롤러를 포함하는 흐름 정체 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 유체 공급기는,상기 기판의 표면과 반응하여 상기 기판에 흡착하는 전구체를 공급하는 전구체 공급기; 및상기 전구체와 반응하여 상기 전구체에 화학 흡착하는 산화제를 공급하는 산화제 공급기를 포함하는 흐름 정체 시스템
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제 2 항에 있어서,상기 증착 챔버 및 상기 가스 라인에 설치되어 전구체 또는 산화제의 농도을 측정하는 농도 측정기; 및 상기 증착 챔버에 퍼지 가스를 공급하여 잔여 전구체 또는 잔여 산화제를 제거하는 퍼징기를 포함하고,상기 퍼징기는 퍼지 가스의 공급 시간 및 유량을 조절하는 유량 조절기를 포함하는 흐름 정체 시스템
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제 3 항에 있어서,상기 컨트롤러는,상기 전구체 공급기가 전구체를 공급하면, 제 1 정체시간 동안에 상기 가스 라인을 통해 상기 진공 펌프 측으로 전구체의 이동이 차단되도록 상기 리텐션 밸브를 폐쇄하는 흐름 정체 시스템
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제 4 항에 있어서,상기 컨트롤러는,상기 산화제 공급기가 산화제를 공급하면, 제 2 정체시간 동안에 상기 가스 라인을 통해 상기 진공 펌프 측으로 산화제의 이동이 차단되도록 상기 리텐션 밸브를 폐쇄하는 흐름 정체 시스템
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제 5 항에 있어서,상기 제 1 정체시간은 상기 농도 측정기를 통해 측정되는 상기 증착 챔버 및 상기 가스 라인 내부에 수용된 전구체의 농도가 평형상태에 도달하는 시간인 흐름 정체 시스템
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제 6 항에 있어서,상기 제 2 정체시간은 상기 농도 측정기를 통해 측정되는 상기 증착 챔버 및 상기 가스 라인 내부에 수용된 산화제의 농도가 평형상태에 도달하는 시간인 흐름 정체 시스템
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제 4 항 내지 제 5 항의 어느 한 항에 있어서,상기 리텐션 밸브가 폐쇄되면, 상기 가스 라인을 이동하는 전구체 또는 산화제는 농도 구배에 의하여 상기 증착 챔버로 역류하는 흐름 정체 시스템
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제 8 항에 있어서,상기 컨트롤러는,상기 증착 챔버 및 상기 가스 라인 내부에 수용된 전구체 또는 산화제의 농도가 평형상태에 도달하면, 상기 진공 펌프 측으로 전구체 또는 산화제가 이동되도록 상기 리텐션 밸브를 개방하는 흐름 정체 시스템
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