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광반응성 점감제 10 내지 90 중량%, 광경화성 수지 10 내지 90 중량%를 혼합하여 조성되는 전도성 복합 수지 조성물 100 중량%에 대하여,전도성 나노 구조체 0
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 복합 수지 조성물 100 중량%에 대하여 분산 안정화제 0,1 내지 20 중량%를 더 첨가하여 조성되는,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 구조체는,단일벽 탄소 나노 튜브(SWCNT), 이중벽 탄소 나노 튜브(DWCNT), 다중벽 탄소 나노 튜브(MWCNT), 그래핀(Graphene), 카본블랙(Carbon Black), 탄소나노섬유(Carbon nanofiber) 및 은 나노 와이어(Silver nanowire)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 구조체는,질소가 도핑된 물질인,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물
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제 1 항에 있어서, 상기 전도성 나노 구조체는 질소가 도핑된 탄소 나노 튜브이고, 탄소 나노 튜브 내에 존재하는 피롤릭 결함에 의하여 질소가 도핑된 것인, 광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물
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제 1 항에 있어서, 상기 전도성 나노 구조체는 질소가 도핑된 탄소 나노 튜브로서, 표면의 적어도 일부에 PEDOT:PSS가 형성된 것인,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물
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7
제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 구조체가 다중벽 탄소 나노 튜브(MWCNT)인 경우,상기 전도성 나노 구조체의 함량은, 상기 전도성 복합 수지 조성물 100 중량%에 대하여 0
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8
제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 구조체가 단일벽 탄소 나노 튜브(SWCNT)인 경우,상기 전도성 나노 구조체의 함량은, 상기 전도성 복합 수지 조성물 100 중량%에 대하여 0
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 구조체가 질소 도핑된 탄소 나노 튜브인 경우,상기 전도성 나노 구조체의 함량은, 상기 전도성 복합 수지 조성물 100 중량%에 대하여 0
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제 1 항에 있어서,상기 광반응성 점감제는,Acryloyl morpholine(ACMO), 1, 9-Nonanediol Diacrylate(NDDA), Triethylene Glycol Diacrylate(TEGDA), Triethylene Glycol Dimethacrylate(TEGDMA), Polyethylene Glycol Diacrylate(PEGDA), Tripropylene Glycol Diacrylate(TPGDA), Trimethylolpropane Triacrylate(TMPTA), Isobornyl Acrylate(IBOA), 4-Hydroxybutyl Acrylate(4-HBA), Hexanediol Diacrylate(HDDA) 및 Hexanediol Diacrylate Dimethacrylate(HDDMA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 광경화성 수지는,에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트 및 실리콘 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물
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(a)전도성 나노 구조체를 광반응성 점감제에 분산시키는 단계; (b)상기 분산된 용액을 광경화성 수지와 혼합하여 전도성 복합 수지 조성물을 제조하는 단계; 및(c)상기 전도성 복합 수지 조성물을 탈포하는 단계;를 포함하고, 상기 전도성 복합 수지 조성물의 전단속도 58s-1에서의 점도는 400 cP 이하인,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물의 제조 방법
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제 12 항에 있어서, 상기 전도성 나노 구조체는 질소가 도핑된 탄소 나노 튜브인,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물의 제조 방법
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제 12 항에 있어서,상기 전도성 나노 구조체는 질소가 도핑된 탄소 나노 튜브로서, 표면의 적어도 일부에 PEDOT:PSS가 형성된 것인,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물의 제조 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 전도성 나노 구조체는(a')탄소 나노 튜브가 분산된 용액에 질산용액 및 PEDOT:PSS 용액을 첨가한 후 혼합액을 생성하는 단계; 및(b')상기 혼합액을 유지하는 단계; 를 포함하여 제조되는, 광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,상기 전도성 나노 구조체는(c')상기 질소가 도핑된 후 잔류하는 질산용액을 세척하는 단계;를 더 포함하여 제조되는,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물의 제조 방법
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제 12 항에 있어서,상기 (b) 단계는,상기 용액에 분산 안정화제를 첨가하는 단계를 더 포함하는,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물의 제조 방법
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제 12 항에 있어서,상기 (c) 단계는,35℃ 이하의 진공에서 2시간 내지 24시간 동안 수행되는,광경화형 3차원 프린팅용 전도성 복합 수지 조성물의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 전도성 복합 수지 조성물을 이용한 광경화형 3차원 프린팅 출력물
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제 19 항에 있어서,상기 광반응성 점감제로 ACMO를 사용할 경우,상기 출력물의 IN-C=O/IC-C=O 비가 5% 내지 95%인,전도성 복합 수지 조성물을 이용한 광경화형 3차원 프린팅 출력물
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제 19 항에 있어서,상기 출력물의 전기전도도는,1E-9S/m 내지 10S/m 인,전도성 복합 수지 조성물을 이용한 광경화형 3차원 프린팅 출력물
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제 19 항에 있어서,상기 출력물은, 주파수가 증가함에 따라 전자파 차폐 효율이 증가하는,전도성 복합 수지 조성물을 이용한 광경화형 3차원 프린팅 출력물
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