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기체 상태의 단량체를 공급하는 제1 배관;계면활성제를 공급하며, 상기 제1 배관과 독립적으로 제공되는 제2 배관;개시제를 공급하며, 상기 제1 배관 및 상기 제2 배관과 독립적으로 제공되는 제3 배관;상기 제1 배관, 상기 제2 배관, 및 상기 제3 배관과 연결되며 상기 단량체, 상기 계면활성제, 및 상기 개시제가 참여하는 중합 반응이 발생하는 반응 챔버; 및상기 반응 챔버와 연결되어 상기 중합 반응에 의해 생성된 고분자 화합물을 배출하는 제4 배관을 포함하고,상기 제1 배관을 통한 상기 단량체 공급, 상기 제2 배관을 통한 상기 계면활성제 공급, 상기 제3 배관을 통한 상기 개시제 공급, 및 상기 제4 배관을 통한 상기 고분자 화합물의 배출이 동시에 연속적으로 수행되고,미반응된 상기 단량체는 액체-기체 분리에 의하여 상기 고분자 화합물과 분리되어 상기 제1 배관으로 다시 공급되는, 고분자 중합 장치
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제1항에 있어서,상기 단량체는 1,1-다이플루오로에틸렌을 포함하고,상기 고분자 화합물은 플루오르화 폴리비닐리덴을 포함하는, 고분자 중합 장치
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제1항에 있어서,상기 고분자 화합물을 응집 및 정제하기 위한 정제 장치를 더 포함하고,상기 정제 장치는 상기 고분자 화합물의 응집 반응을 수행하기 위한 염화 철 또는 염화 알루미늄을 갖는, 고분자 중합 장치
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제1항에 있어서,상기 제1 배관은 상기 반응 챔버의 하단부에 연결되고,상기 제4 배관은 상기 반응 챔버의 상단부에 연결되는, 고분자 중합 장치
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제1항에 있어서,상기 반응 챔버는 상기 단량체, 상기 계면활성제, 및 상기 개시제를 교반하기 위한 교반 장치를 더 포함하는, 고분자 중합 장치
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6 |
6
제1항에 있어서,상기 단량체는 140cc/min 내지 280cc/min의 유량으로 공급되는, 고분자 중합 장치
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7
기체 상태의 단량체, 계면활성제, 및 개시제를 공급하는 반응물 공급 단계;상기 단량체, 상기 계면활성제, 및 상기 개시제가 참여하는 중합 반응을 수행하는 중합 반응 단계; 및상기 중합 반응에 의해 생성된 고분자 화합물을 배출하는 생성물 배출 단계를 포함하고,상기 반응물 공급 단계, 상기 중합 반응 단계, 및 상기 생성물 배출 단계는 반응기 셋업 후 동시에 연속적으로 수행되고,미반응된 상기 단량체는 액체-기체 분리에 의하여 상기 고분자 화합물과 분리되어 반응기 내부로 다시 공급되고,상기 중합 반응 단계에서 상기 단량체 및 상기 계면활성제는 미셀을 이루고,상기 미셀 내부로 상기 개시제에 의해 생성된 자유 라디컬이 침투하여 상기 중합 반응이 수행되는, 고분자 중합 공정
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제7항에 있어서,상기 단량체는 1,1-다이플루오로에틸렌을 포함하고,상기 고분자 화합물은 플루오르화 폴리비닐리덴을 포함하는, 고분자 중합 공정
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제7항에 있어서,상기 단량체는 140cc/min 내지 280cc/min의 유량으로 공급되는, 고분자 중합 공정
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제7항에 있어서,상기 생성물 배출 단계 이후,염화 철 또는 염화 알루미늄을 이용하여 상기 고분자 화합물을 응집하는 단계;기체-액체 분리 공정을 통해 상기 단량체를 상기 고분자 화합물로부터 분리하는 단계; 및상기 고분자 화합물 및 미반응된 상기 계면활성제 및 상기 개시제를 원심 분리를 통해 분리하는 단계를 더 포함하는, 고분자 중합 공정
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