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기체 상태의 단량체, 계면활성제, 및 개시제를 공급하는 반응물 공급 단계;상기 단량체, 상기 계면활성제, 및 상기 개시제가 참여하는 중합 반응을 수행하는 중합 반응 단계; 및상기 중합 반응에 의해 생성된 고분자 화합물을 배출하는 생성물 배출 단계를 포함하고,공급된 상기 개시제의 유량은 상기 고분자 화합물의 분자량과 반비례하고, 상기 개시제의 유량을 제어하여 상기 중합 반응에 의해 생성된 고분자 화합물의 분자량을 조절하는, 분자량 조절 고분자 중합 공정
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제1항에 있어서,상기 단량체는 1,1-다이플루오로에틸렌을 포함하고,상기 고분자 화합물은 플루오르화 폴리비닐리덴을 포함하는, 분자량 조절 고분자 중합 공정
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3 |
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제2항에 있어서,상기 개시제는 과황산나트륨을 포함하는, 분자량 조절 고분자 중합 공정
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제3항에 있어서,상기 개시제의 유량을 0
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5 |
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제4항에 있어서,합성하고자 하는 상기 고분자 화합물의 분자량이 90,000 내지 200,000인 경우 상기 개시제의 유량을 2
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6 |
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제1항에 있어서,상기 반응물 공급 단계, 상기 중합 반응 단계, 및 상기 생성물 배출 단계는 반응기 셋업 후 동시에 연속적으로 수행되고,미반응된 상기 단량체는 액체-기체 분리에 의하여 상기 고분자 화합물과 분리되어 반응기 내부로 다시 공급되는, 분자량 조절 고분자 중합 공정
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제1항에 있어서,상기 생성물 배출 단계 이후,염화 철 또는 염화 알루미늄을 이용하여 상기 고분자 화합물을 응집하는 단계;기체-액체 분리 공정을 통해 상기 단량체를 상기 고분자 화합물로부터 분리하는 단계; 및상기 고분자 화합물 및 미반응된 상기 계면활성제 및 상기 개시제를 원심 분리를 통해 분리하는 단계를 더 포함하는, 분자량 조절 고분자 중합 공정
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8
제1항에 있어서,상기 중합 반응 단계에서,상기 단량체와 상기 계면활성제는 미셀 구조를 형성하고,상기 개시제로부터 형성된 자유 라디칼이 상기 미셀 구조 내에 침투하여 상기 중합 반응이 수행되는, 분자량 조절 고분자 중합 공정
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제8항에 있어서,상기 고분자 화합물은 콜로이드 형태로 합성되는, 고분자 중합 공정
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