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가용성 폴리이미드를 이용한 유기 절연체 박막 및 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조 방법

  • 기술번호 : KST2021011144
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 가용성 폴리이미드를 이용한 유기 절연체 박막 및 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조 방법에 관한 것으로, 가용성 폴리이미드를 포함하는 용액을 준비하는 단계; 및 기판상에 상기 용액을 도포 한 후 건조시켜 유기 절연체 박막을 형성하는 단계;를 포함하는 유기 절연체 박막의 저온 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL H01L 51/05 (2006.01.01) H01L 51/00 (2006.01.01)
CPC H01L 51/0516(2013.01) H01L 51/0004(2013.01) H01L 51/0067(2013.01) H01L 51/0035(2013.01)
출원번호/일자 1020200027213 (2020.03.04)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0112088 (2021.09.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.03.04)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김윤호 대전광역시 유성구
2 박현진 대전광역시 유성구
3 원종찬 대전광역시 유성구
4 유성미 대전광역시 유성구
5 정유리 대전광역시 유성구
6 김진수 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.03.04 수리 (Accepted) 1-1-2020-0231947-46
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.07.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.09.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0028562-14
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.02.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0163745-83
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2021-0475411-87
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.04.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-0475449-11
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2021.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0668793-19
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2021-1097898-54
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2021.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2021-1098008-25
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1 내지 4 중 적어도 하나의 가용성 폴리이미드를 포함하는 용액을 준비하는 단계; 및기판상에 상기 용액을 도포 한 후 건조시켜 유기 절연체 박막을 형성하는 단계;를 포함하는 유기 절연체 박막의 저온 제조방법:003c#화학식 1003e#003c#화학식 2003e#003c#화학식 3003e#003c#화학식 4003e#(n은 5 내지 10,000의 자연수)
2 2
제 1 항에 있어서,상기 가용성 폴리이미드는 상기 화학식 1로 표시되는 폴리이미드인 유기 절연체 박막의 저온 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 용액의 도포는 스핀코팅, 잉크젯 프린팅 및 딥핑 중 어느 하나의 방법으로 수행되는 유기 절연체 박막의 저온 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 건조는 80℃ 내지 120℃의 온도로 열처리하는 방법으로 수행되는 유기 절연체 박막의 저온 제조방법
5 5
게이트 전극이 형성된 기판상에 제 1 항의 방법으로 게이트 절연체층을 형성하는 단계; 및상기 게이트 절연체층상에 유기 반도체층을 형성하는 단계;를 포함하는 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 유기 반도체층을 형성하는 단계는상기 게이트 절연체층상의 외곽부에 뱅크(bank)를 인쇄하는 단계; 및상기 뱅크(bank)에 의해 둘러싸인 영역 내부에 유기 반도체를 인쇄한 후 열처리하는 단계;를 포함하는 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 열처리는 50℃ 내지 90℃에서 수행되는 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법
8 8
제 5 항에 있어서, 상기 유기 반도체층은 팁스 펜타센(TIPS-pentacene, bis(triisopropylsilylethinyl)pentacene), DPP-DTT(diketo pyrrolo pyrrole dithienyl thieno[3,2-b]thiophene), PBTTT(poly[2,5-bis(3-dodecylthiophen-2-yl)thieno[3,2-b]thiophene]), PCDTPT(poly[(4,4-bis(2-ethylhexyl)cyclopenta[2,1-b:3,4-b0]dithiophene)-2,6-diyl-alt-[1,2,5]-thiadiazolo[3,4-c]pyridine]), C8-BTBT(2,7-dioctyl [1]-benzothieno[3,2-b][1]benzothiophene), C10-BTBT(2,7-didecyl[1]benzothieno[3,2-b][1]benzothiophene), C12-BTBT(2,7-didodecyl[1]-benzothieno[3,2-b][1]benzothiophene), Ph-BTBT-10(2-Decyl-7-phenyl[1]benzothieno[3,2-b][1]benzothiophene), MeOPh-BTBT-8(2-(4-methoxyphenyl)-7-octyl-benzothienobenzothiophene), CDT-BTZ(cyclopentadithiophene-benzothiadiazole), 플러렌(fullerene), 폴리(3-헥실)티오펜, 폴리(9,9-다이옥틸플로렌-코-비티오펜, 폴리[2,5-비스(3-테트라덱실티오펜-2-yl)티에노[3,2-b]티오펜], 펜타센(pentacene), 폴리티오펜(polythiophene) 및 테트라센(tetracene) 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법
9 9
제 5 항에 있어서, 상기 유기 트랜지스터의 제조방법은상기 유기 반도체층상에 소스/드레인 전극을 형성하는 단계;를 더 포함하는 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법
10 10
제 5 항에 있어서, 상기 제조방법으로 제조된 유기 박막 트랜지스터는 바이어스 인가하에 따른 IDS(t)/IDS(0)값이 0
11 11
제 5 항에 있어서, 상기 제조방법으로 제조된 유기 박막 트랜지스터는 온-오프 전류비(Ion/Ioff)가 1
12 12
게이트 전극이 형성된 유연 기판상에 제 1 항의 방법으로 게이트 절연체층을 형성하는 단계; 및상기 게이트 절연체층상에 유기 반도체층을 형성하는 단계;를 포함하는 플렉서블 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법:
13 13
제 12 항에 있어서,상기 기판은 1 내지 5 μm 두께의 유연 기판인 플렉서블 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법
14 14
제 12 항에 있어서,상기 유연 기판은 파릴린 C(Parylene C, poly-para-xylylene), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene naphthalate) 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate) 중 선택되는 1종 이상인 플렉서블 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법
15 15
제 12 항에 있어서, 상기 제조방법으로 제조된 플렉서블 유기 트랜지스터는 온-오프 전류비(Ion/Ioff)가 4×106 내지 5×106인 플렉서블 유기 박막 트랜지스터의 저온 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국화학연구원 정부출연 일반사업 IoT 디바이스용 스마트 화학 소재기술
2 과학기술정보통신부 한국화학연구원 글로벌프론티어지원(R&D) 유연절연박막소재 개발