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대향 타겟식 스퍼터링 장치

  • 기술번호 : KST2021011393
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 타겟의 소모량을 제어할 수 있으며, 증착되는 박막의 균일도를 향상시킬 수 있는 대향 타겟식 스퍼터링 장치가 개시된다. 이러한 대향 타겟식 스퍼터링 장치는 챔버, 기판 장착부, 가스 공급부, 제1 자석부, 제2 자석부 및 진공펌프를 포함한다. 상기 기판 장착부는 상기 챔버 내부에 배치되어, 피증착물을 장착한다. 상기 가스 공급부는 상기 챔버 내부에 가스를 공급한다. 상기 제1 자석부와 제2 자석부는 상기 챔버 내부에 배치되며, 각각이 제1 타겟 및 제2 타겟의 배면에 배치된다. 상기 진공펌프는 상기 챔버 내부의 가스를 배출시킨다. 이때, 상기 제1 자석부와 상기 제2 자석부는 서로 반대의 극성이 마주하도록 배치되며, 각각 하나 이상의 자석들로 형성되며, 단부가 'I'자 형상을 갖거나 갖도록 배치된다.
Int. CL C23C 14/35 (2006.01.01) C23C 14/56 (2006.01.01) H01J 37/34 (2006.01.01)
CPC C23C 14/352(2013.01) C23C 14/56(2013.01) H01J 37/345(2013.01) H01J 37/3441(2013.01)
출원번호/일자 1020180109915 (2018.09.14)
출원인 가천대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2184777-0000 (2020.11.24)
공개번호/일자 10-2020-0031212 (2020.03.24) 문서열기
공고번호/일자 (20201130) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.09.14)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 가천대학교 산학협력단 대한민국 경기도 성남시 수정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김경환 서울특별시 동대문구
2 김상모 경기도 성남시 수정구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인청맥 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **, *층(역삼동, MK빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 가천대학교 산학협력단 경기도 성남시 수정구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2018-0914400-12
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.10.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.11.08 수리 (Accepted) 9-1-2019-0051016-27
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.05.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0348419-18
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.07.17 수리 (Accepted) 1-1-2020-0748498-28
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.07.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0748485-35
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2020.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0721660-00
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.11.12 수리 (Accepted) 1-1-2020-1212886-93
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2020.11.12 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2020-1212873-00
10 등록결정서
Decision to Grant Registration
2020.11.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0816471-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
챔버;상기 챔버 내부에 배치되어, 피증착물을 장착하는 기판 장착부;상기 챔버 내부에 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 챔버 내부에 배치되며, 각각이 제1 타겟 및 제2 타겟의 배면에 배치되는 제1 자석부와 제2 자석부; 및상기 챔버 내부의 가스를 배출시키는 진공펌프;를 포함하고,상기 제1 자석부와 상기 제2 자석부는 서로 반대의 극성이 마주하도록 배치되며, 각각 하나 이상의 자석들로 형성되며, 단부가 'I'자 형상을 갖거나 갖도록 배치되며, 'I'자 형상의 외곽을 감싸는 자석은 존재하지 않고,상기 기판 장착부는, 상기 제1 자석부 및 상기 제2 자석부가 마주보는 방향과 평행한 방향을 따라 왕복운동 할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
2 2
삭제
3 3
제1 항에 있어서,상기 제1 자석부와 상기 제2 자석부를 각각 커버하는 제1 실드부와 제2 실드부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제1 항에 있어서,전원부를 더 포함하고, 상기 제1 자석부 및 상기 제2 자석부는 각각 상기 전원부의 캐소드와 상기 제1 타겟 및 상기 제2 타겟 사이에 배치되고, 상기 전원부의 애노드는 접지되어 상기 기판 장착부에 연결된 것을 특징으로 하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
5 5
제1 항에 있어서,상기 제1 자석부 및 상기 제2 자석부는 각각 상기 제1 타겟 및 상기 제2 타겟보다 작은 것을 특징으로 하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 주성엔지니어링(주) 신재생에너지핵심기술개발사업 100WM급 이상의 n형 이종접합 결정질 실리콘 태양전지 핵심 공정 장비 기술개발