1 |
1
광 도파로의 일 면을 형성하기 위해 구비되는 제 1금속층;상기 제 1금속층과 일 면이 맞닿도록 적층되어 형성되며, 상기 광 도파로로 사용되는 제 1유전체;상기 제 1유전체의 타 면과 일 면이 맞닿도록 적층되어 형성되며, 상기 광 도파로의 타 면을 형성하기 위해 구비되는 제 2금속층;상기 제 2금속층의 타 면과 일 면이 맞닿도록 적층되어 형성되는 제 2유전체; 및상기 제 2금속층과 상기 제 2유전체 사이에 형성되며, 상기 제 2금속층에 접착되어 형성되며, 입사광을 흡수한 후 형광을 방출하는 형광층;을 포함하여 형성되는 표면 플라즈몬 증폭부;를 이용하여 표면 플라즈몬 현상을 발생시켜 상기 형광을 증폭하고,상기 제 1유전체는 상기 제 1금속층 및 제 2금속층 사이에서 광도파로로 사용되며, 상기 제 1금속층을 통하여 형성되는 표면 플라즈몬 및 상기 제 2금속층을 통하여 형성되는 표면 플라즈몬의 세기를 증폭하는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|
2 |
2
제 1항에 있어서,상기 제 1금속층은 은 또는 금으로 형성되는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|
3 |
3
제 2항에 있어서,상기 제 1유전체는, 상기 제 2유전체와 유사한 굴절률을 가지는 물질로 형성되는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|
4 |
4
제 3항에 있어서,상기 제 1유전체는 굴절률이 1
|
5 |
5
제 4항에 있어서,상기 제 1유전체는 테플론으로 형성되는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|
6 |
6
제 3항에 있어서,상기 제 2금속층은, 상기 표면 플라즈몬을 투과시키기 위해 15nm이하의 두께로 형성되는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|
7 |
7
제 6항에 있어서,상기 제 2금속층은, 금으로 형성되는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|
8 |
8
제 3항에 있어서,상기 제 2유전체의 타 면을 통해 상기 입사광을 전달받고, 상기 제 1금속층을 통해 상기 형광을 방출하는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|
9 |
9
제 3항에 있어서,상기 제 1금속층의 타 면에 프리즘의 빗면이 접하도록 형성되며, 상기 프리즘의 다른 두 면 중 일 면을 통해 상기 입사광을 전달받고, 나머지 한 면을 통해 상기 형광을 방출하는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|
10 |
10
제 9항에 있어서,상기 입사광은, 상기 표면 플라즈몬 증폭부에서 상기 표면 플라즈몬 현상으로 증폭되어 상기 형광층에 포함되는 형광 물질을 여기시키는 장거리 표면 플라즈몬을 이용한 형광 증폭 장치
|